[發(fā)明專利]一種光學(xué)臨近效應(yīng)修正方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010175353.0
• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN113391516B
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐進(jìn)
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 孫寶海;闞梓瑄

本發(fā)明實(shí)施例公開了一種光學(xué)臨近效應(yīng)修正方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，其中光學(xué)臨近效應(yīng)修正方法包括：根據(jù)目標(biāo)圖形的設(shè)計(jì)規(guī)則，制作測試圖形光罩；獲取光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型所需的數(shù)據(jù)，并建立光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型；獲取測試圖形的線端回縮數(shù)據(jù)，并建立線端回縮規(guī)則表；根據(jù)線端回縮規(guī)則表，確定初始修正值；根據(jù)初始修正值和光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型對目標(biāo)圖形進(jìn)行修正。本發(fā)明實(shí)施例提供的方法通過建立線端回縮規(guī)則表確定初始修正值，利用初始修正值進(jìn)行光學(xué)臨近效應(yīng)修正，可以有效提高光學(xué)臨近效應(yīng)修正在修正線端回縮時(shí)的收斂性，提高修正效率，減少光學(xué)臨近效應(yīng)修正的運(yùn)行時(shí)間，進(jìn)而提高半導(dǎo)體制造效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明實(shí)施例涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)臨近效應(yīng)修正方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)。

背景技術(shù)

基于模型的光學(xué)鄰近修正(Optical Proximity Correction，OPC)從180nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)開始被廣泛應(yīng)用。它使用光學(xué)模型和光刻膠化學(xué)反應(yīng)模型來計(jì)算出曝光后的圖形。

光刻圖形失真之線端回縮(Line end shortening，LES)是指晶圓上實(shí)際圖形長度小于設(shè)計(jì)圖形長度，這種失真的偏差來自于光刻衍射成像過程中高頻信息丟失導(dǎo)致的空間光學(xué)像的畸變，空間光學(xué)像的畸變程度和特征尺寸緊密相關(guān)，隨著特征尺寸的減小，線端回縮明顯增大，會(huì)使得有緣層?xùn)艠O層器件或者金屬層通孔層覆蓋面積不夠，導(dǎo)致電路器件性能變差。因此需要在OPC中會(huì)使掩模版在線端的長度修正變長。

在OPC修正過程中，所有需要進(jìn)行修正的圖形會(huì)根據(jù)OPC模型的預(yù)測，在圖形的邊分段后進(jìn)行片段的移動(dòng)以使圖形的光阻形狀達(dá)到目標(biāo)值。然而對于越來越先進(jìn)的光刻制程下，光學(xué)衍射效應(yīng)也越來越嚴(yán)重，圖形在線端會(huì)產(chǎn)生非常大的回縮效應(yīng)。此時(shí)為了使圖形在晶圓上達(dá)到目標(biāo)，OPC修正會(huì)往外移動(dòng)圖形相當(dāng)大的距離，可達(dá)到50nm～100nm的量級，來使得OPC結(jié)果符合預(yù)期。在OPC修正過程中，可能會(huì)碰到OPC收斂性較差，導(dǎo)致修正時(shí)間過長而影響到光罩制作甚至產(chǎn)品進(jìn)度。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光學(xué)臨近效應(yīng)修正方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，以提高光學(xué)臨近效應(yīng)修正在修正線端回縮時(shí)的收斂性，提高修正效率，減少光學(xué)臨近效應(yīng)修正的運(yùn)行時(shí)間。

第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光學(xué)臨近效應(yīng)修正方法，包括：

根據(jù)目標(biāo)圖形的設(shè)計(jì)規(guī)則，制作測試圖形光罩；

獲取光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型所需的數(shù)據(jù)，并建立所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型；

獲取所述測試圖形的線端回縮數(shù)據(jù)，并建立線端回縮規(guī)則表；

根據(jù)所述線端回縮規(guī)則表，確定初始修正值；

根據(jù)所述初始修正值和所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型對所述目標(biāo)圖形進(jìn)行修正。

可選的，還包括：

循環(huán)執(zhí)行對所述目標(biāo)圖形進(jìn)行修正的過程，直至所述目標(biāo)圖形的線端回縮達(dá)到目標(biāo)值。

可選的，所述獲取光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型所需的數(shù)據(jù)，并建立所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型之后，還包括：

驗(yàn)證所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型，并比較所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型得到的線端回縮數(shù)據(jù)與所述測試圖形的線端回縮數(shù)據(jù)；

若所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型得到的線端回縮數(shù)據(jù)與所述測試圖形的線端回縮數(shù)據(jù)之差的絕對值小于或等于預(yù)設(shè)閾值，則判定所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型符合應(yīng)用條件。

可選的，還包括：

若所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型得到的線端回縮數(shù)據(jù)與所述測試圖形的線端回縮數(shù)據(jù)之差的絕對值大于預(yù)設(shè)閾值，則進(jìn)行基于模型的光學(xué)臨近效應(yīng)修正，直至滿足所述光學(xué)臨近效應(yīng)修正模型得到的線端回縮數(shù)據(jù)與所述測試圖形的線端回縮數(shù)據(jù)之差的絕對值小于或等于預(yù)設(shè)閾值。