[發明專利]地基中的基坑包圍結構及其制造方法

有效

• 申請號: 202010174750.6
• 申請日: 2020-03-13
• 公開（公告）號: CN111691442B
• 公開（公告）日: 2023-01-03
• 發明（設計）人: D.貝爾;S.沃蘭德
• 申請（專利權）人: 包爾特殊基礎工程有限公司
• 主分類號: E02D19/00
• 分類號: E02D19/00;E02D19/16
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 萬欣;陳浩然

1.用于在地基(5)中建造基坑包圍結構(10)的方法，在所述地基中存在地下水位(7)，其中，

在所述地基(5)中建造環形密封壁(12)，所述環形密封壁從地基表面(6)延伸直至預設的深度，所述預設的深度處于所述地下水位(7)的下方，并且

在所述環形密封壁(12)之內在所述地下水位(7)下方的下部區域中通過注射密封介質建造密封底部(14)，其中，通過所述環形密封壁(12)和所述密封底部(14)在所述地基(5)中形成密封盆狀件(20)，

其特征在于，

- 將來自所述地基(5)的在所述密封盆狀件(20)之內的地下水泵出直至限定的壓縮水平(30)的地下水高度，所述壓縮水平處于所述地下水位(7)下方和所述密封底部(14)上方，

- 使所述密封盆狀件(20)中的地下水在所述壓縮水平(30)上保持預設的時間段，所述時間段為至少8小時，其中，所述密封底部(14)由于從下方施加的地下水壓力而被有針對性地壓縮，并且

- 接著，將所述密封盆狀件(20)中的地下水高度抬升到最終水平(32)，所述最終水平處于所述壓縮水平(30)上方和所述地下水位(7)下方。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述密封盆狀件(20)之內掘出基坑(26)，其中，將地基材料掘出直至限定的基坑底部(28)，所述基坑底部處于所述密封盆狀件(20)中的地下水的最終水平(32)上方。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述地下水高度保持在所述壓縮水平(30)上的時間段為在8小時與48小時之間。

4.根據權利要求1至2中任一項所述的方法，其特征在于，在所述密封盆狀件(20)中，使所述地下水均勻地在所述密封底部(14)之上下降以達到所述壓縮水平(30)。

5.根據權利要求1至2中任一項所述的方法，其特征在于，為了使所述密封盆狀件(20)中的地下水下降，將多個井狀部(22)分布在所述密封底部(14)之上地進行建造，并且從所述井狀部(22)中將地下水泵出。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，隨著時間以可變的泵出功率進行地下水的泵出。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，使所述泵出功率逐步地升高，直至達到期望的最終值。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在各個井狀部(22)處不同地進行所述泵出。

9.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在所述泵出期間和/或之后測量和檢驗所述地下水高度。

10.根據權利要求1至2中任一項所述的方法，其特征在于，所述密封介質是如下密封凝膠，所述密封凝膠包含硅酸鹽、水玻璃和/或硅溶膠作為組分。

11.根據權利要求1至2中任一項所述的方法，其特征在于，所述環形密封壁(12)實施為鉆孔樁壁或連續壁。

12.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述地下水高度保持在所述壓縮水平(30)上的時間段為在12小時與24小時之間。

13.地基中的基坑包圍結構，其中在所述地基(5)中建造環形密封壁(12)，所述環形密封壁從地基表面(6)延伸直至預設的深度，所述預設的深度處于所述地基（5）中的地下水位(7)的下方，并且在所述環形密封壁(12)之內在所述地下水位(7)下方的下部區域中通過注射密封介質建造密封底部(14)，其中，通過所述環形密封壁(12)和所述密封底部(14)在所述地基(5)中形成密封盆狀件(20)，

其特征在于，

所述密封底部(14)被有針對性地壓縮，其方式為，將來自所述地基的在所述密封盆狀件(20)之內的地下水泵出直至限定的壓縮水平(30)的地下水高度，所述壓縮水平處于所述地下水位(7)下方和所述密封底部(14)上方，并且在將所述密封盆狀件(20)中的地下水高度在所述壓縮之后抬升到處于所述壓縮水平(30)上方的最終水平(32)之前，使所述密封盆狀件(20)中的地下水在所述壓縮水平(30)上保持至少8小時的預設的時間段。