[發(fā)明專利]一種基于電極溶液體系的CO2 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010172861.3 | 申請日: | 2020-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN111378983B | 公開(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 毛慶;趙健;李冰玉;劉松;徐可一;曹自強(qiáng);郭唱;黃延強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 大連理工大學(xué) |
| 主分類號: | C25B3/03 | 分類號: | C25B3/03;C25B3/26;C25B11/075;C25B11/02;C25B11/03 |
| 代理公司: | 大連理工大學(xué)專利中心 21200 | 代理人: | 陳玲玉 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 電極 溶液 體系 co base sub | ||
1.一種基于電極溶液體系的CO2電還原反應(yīng)控制方法,其特征在于,所述的電極溶液體系為銅基催化材料與電解質(zhì)溶液相接觸的界面體系;所述的銅基催化材料為銅箔、銅網(wǎng)中的一種;電解質(zhì)溶液為CO2飽和的0.1 mol·L-1 ~ 0.5 mol·L-1的KHCO3水溶液;具體控制方法為將所述界面體系在0~60oC溫度范圍內(nèi),控制電位實(shí)現(xiàn)周期性階躍變化,實(shí)現(xiàn)催化劑晶面的選擇性制備與晶粒粒度的可控制備,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)氣態(tài)烴類產(chǎn)物CH4選擇性的調(diào)變;CH4法拉第效率的調(diào)變范圍為5.5 %~ 79 %;
對CO2電還原反應(yīng)的電極溶液體系施加周期性的電位階躍,階躍氧化電位Ea范圍為0 V~1.2 V,階躍氧化時(shí)間Ta為5 s~20 s;階躍還原電位Ec為 -1.8 V~ -2.6 V,階躍還原時(shí)間Tc為20 s~900 s;所述氧化電位和還原電位皆相對于飽和甘汞電極;
在氧化電位Ea與氧化時(shí)間Ta恒定的條件下,CH4的法拉第效率通過還原時(shí)間Tc與還原電位Ec的調(diào)變實(shí)現(xiàn),其調(diào)變規(guī)律為法拉第效率FE = A1 + A2×Ec + A3×Tc + A4×Ec2+ A5×Tc2+A6×Ec×Tc,其中A1 = -1.22621;A2 = -1.76098;A3 = -0.00169;A4 = -0.41328;A5 = -4.83721e-5;A6 = -0.00319;
所述方法實(shí)現(xiàn)Cu基催化材料表面納米銅顆粒的原位可控制備,其粒徑可控制備在20nm~700 nm之間;
所述方法實(shí)現(xiàn)Cu基催化材料表面四方晶系晶面與立方晶系晶面的原位制備,且原位形成銅的氧化物,其表面Cu/CuxO原子比在0.098~2.703之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于電極溶液體系的CO2電還原反應(yīng)控制方法,其特征在于,所述銅箔與銅網(wǎng)電極的預(yù)處理工藝為:在體積濃度85%的磷酸水溶液中,施加電流密度為50mA·cm-2 ~250 mA·cm-2的陽極電流進(jìn)行電拋光處理,去離子水沖洗;取出后置于無水乙醇中超聲處理,并用去離子水沖洗。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種基于電極溶液體系的CO2電還原反應(yīng)控制方法,其特征在于,5oC在Cu箔與CO2飽和的0.1 mol·L-1KHCO3溶液形成的界面體系中,周期性電位階躍運(yùn)行環(huán)境:Ta = 5 s, Ea = 1 V, Ec =- 2.2 V, Tc = 70 s;在120分鐘時(shí)CH4法拉第效率達(dá)79 %。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于大連理工大學(xué),未經(jīng)大連理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010172861.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





