[發(fā)明專利]蝕刻裝置及蝕刻方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010170494.3
• 申請(qǐng)日: 2020-03-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111334799B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-04-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李嘉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/08
• 分類號(hào): C23F1/08;C23F1/16;G02F1/13
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 唐秀萍

1.一種蝕刻裝置，其特征在于，包括：

檢測(cè)系統(tǒng)；

投料系統(tǒng)，所述投料系統(tǒng)與所述檢測(cè)系統(tǒng)連接；

儲(chǔ)液系統(tǒng)，所述儲(chǔ)液系統(tǒng)與所述投料系統(tǒng)連接；

蝕刻系統(tǒng)，所述蝕刻系統(tǒng)與所述儲(chǔ)液系統(tǒng)連接，且所述蝕刻系統(tǒng)與所述檢測(cè)系統(tǒng)連接，所述蝕刻系統(tǒng)與所述投料系統(tǒng)連接；以及

排液系統(tǒng)，所述排液系統(tǒng)與所述蝕刻系統(tǒng)連接；

其中，所述儲(chǔ)液系統(tǒng)用以向所述蝕刻系統(tǒng)提供蝕刻液，以完成第一金屬層蝕刻，所述儲(chǔ)液系統(tǒng)還用于向所述投料系統(tǒng)提供所述蝕刻液以溶解及混合所述投料系統(tǒng)內(nèi)的蝕刻材料，所述檢測(cè)系統(tǒng)用以檢測(cè)所述蝕刻系統(tǒng)內(nèi)的蝕刻液的含量，并控制所述投料系統(tǒng)向所述蝕刻系統(tǒng)投放蝕刻材料，以完成第二金屬層蝕刻，其中所述投料系統(tǒng)與所述儲(chǔ)液系統(tǒng)內(nèi)儲(chǔ)存有不同的蝕刻液以及蝕刻材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述投料系統(tǒng)包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)、至少一蝕刻材料收納箱以及反應(yīng)室，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)與所述蝕刻材料收納箱連接并驅(qū)動(dòng)所述蝕刻材料收納箱向所述投料系統(tǒng)投放所述蝕刻材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述投料系統(tǒng)還包括循環(huán)泵、進(jìn)液管以及出液管，所述反應(yīng)室通過(guò)所述進(jìn)液管與所述儲(chǔ)液系統(tǒng)連接，所述反應(yīng)室通過(guò)所述出液管與所述蝕刻系統(tǒng)連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻材料包括銅酸以及添加劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻材料中所述添加劑的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為0.001％～1％。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述添加劑包括唑類添加劑。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)包括步進(jìn)電機(jī)。

8.一種蝕刻方法，其特征在于，包括如下步驟：

S100：將蝕刻產(chǎn)品放入蝕刻系統(tǒng)中，并向儲(chǔ)液系統(tǒng)和所述蝕刻系統(tǒng)注入蝕刻液；

S101：對(duì)所述蝕刻產(chǎn)品進(jìn)行蝕刻并形成第一金屬層；

S102：向投料系統(tǒng)中加入蝕刻材料，將所述儲(chǔ)液系統(tǒng)中的所述蝕刻液提供至所述投料系統(tǒng)中以溶解及混合所述投料系統(tǒng)內(nèi)的所述蝕刻材料，其中所述投料系統(tǒng)與所述儲(chǔ)液系統(tǒng)內(nèi)儲(chǔ)存有不同的蝕刻液以及蝕刻材料，所述蝕刻材料混合均勻后，形成混合溶液，并將所述混合溶液輸入到所述蝕刻系統(tǒng)中；

S103：對(duì)所述蝕刻產(chǎn)品進(jìn)行第二次蝕刻，并形成第二金屬層；

S104：通過(guò)排液系統(tǒng)排出多余的蝕刻液，并對(duì)所述蝕刻系統(tǒng)以及所述蝕刻產(chǎn)品進(jìn)行清洗，完成蝕刻。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蝕刻方法，其特征在于，所述步驟S102中，所述蝕刻材料包括銅酸以及添加劑，所述添加劑與所述銅酸在反應(yīng)室內(nèi)充分混合，并通過(guò)出液管輸送至所述蝕刻系統(tǒng)內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蝕刻方法，其特征在于，通過(guò)攪拌，使所述添加劑與所述銅酸充分混合，攪拌時(shí)間不小于3min。