[發明專利]一種轉印方法以及轉印設備

有效

• 申請號: 202010170417.8
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN111469571B
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發明（設計）人: 易偉華;張迅;劉明禮;孫如;洪華俊;康利;向軍
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司深圳分公司
• 主分類號: B41M1/26
• 分類號: B41M1/26;B41M5/025;B41F16/00;B41F22/00;B41F33/00;B41F35/02
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 朱志達

本發明涉及一種轉印方法以及轉印設備。首先用戶提供轉印平臺和光學檢查系統，轉印平臺包括支撐件和轉印模具，支撐件設有多個工位，每一工位設置有轉印模具，啟動轉印平臺，支撐件帶動轉印模具運動，啟動光學檢查系統，檢查轉印模具的表面質量，當光學檢查系統檢查到轉印模具的表面存在缺陷時，光學檢查系統發出警報，轉印平臺停止運轉，當轉印模具的表面質量符合要求時，采用清潔件對轉印模具進行清潔，清潔后，支撐件帶動被檢測過的轉印模具運動至下一工位并進行轉印加工。該轉印方法可以對轉印模具的表面進行在在線檢查，加強對轉印模具表面質量的檢測，及時對有缺陷的轉印模具進行更替，防止后續膜片的生產質量下降。

技術領域

本發明涉及UV轉印的技術領域，特別是涉及一種轉印方法以及轉印設備。

背景技術

目前的電子產品后蓋的紋理膜一般是通過UV轉印的方式制作，但由于轉印模具在轉印過程中容易產生碎屑以及吸附空氣中的顆粒物，容易導致轉印模具遭受損傷，現有的轉印方式制作過程中，轉印模具的表面容易產生損傷，造成后續膜片的生產質量下降。

發明內容

基于此，有必要針對轉印模具的表面容易產生損傷的問題，提供一種轉印方法以及轉印設備。

一種轉印方法，包括以下步驟：

提供轉印平臺和光學檢查系統，所述轉印平臺包括支撐件和轉印模具，所述支撐件設有多個工位，每一工位設置有所述轉印模具；

啟動所述轉印平臺，所述支撐件帶動所述轉印模具運動；

啟動所述光學檢查系統，檢查所述轉印模具的表面質量；以及

當所述光學檢查系統檢查到所述轉印模具的表面存在缺陷時，停止設備運轉；當所述轉印模具的表面質量符合要求時，所述支撐件帶動被檢測過的所述轉印模具運動至下一工位并進行轉印加工。

上述轉印方法，加強對轉印模具表面質量的檢測，及時對有缺陷的轉印模具進行更替，防止后續膜片的生產質量下降。

在其中一個實施例中，包括以下任一種方案：

所述轉印模具和所述支撐件分別呈透明狀，所述光學檢查系統包括光學探頭，所述光學探頭設置于所述轉印模具的背離所述支撐件的一側；

所述轉印模具和所述支撐件分別呈透明狀，所述光學檢查系統包括光學探頭，所述光學探頭設置于所述支撐件的背離所述轉印模具的一側。

在其中一個實施例中，在檢查所述轉印模具的表面質量的步驟中，包括：

所述支撐件能夠旋轉以帶動所述轉印模具運動，并使所述光學檢查系統檢查不同工位的所述轉印模具；

當所述光學檢查系統檢查到所述轉印模具的表面存在缺陷時，所述光學檢查系統發出警報，所述轉印平臺停止運轉。

在其中一個實施例中，在被檢測過的所述轉印模具運動至下一工位并進行轉印加工之前，包括：

采用清潔件對所述轉印模具進行清潔。

在其中一個實施例中，所述清潔件包括清潔膠輥和除靜電風刀，所述清潔膠輥和所述除靜電風刀相對設置，且在清潔所述轉印模具的過程中，所述清潔膠輥、所述除靜電風刀分別垂直于所述支撐件的轉軸延伸方向。

一種轉印設備，其特征在于，包括：

轉印平臺，所述轉印平臺為透明狀，所述轉印平臺包括支撐件和轉印模具，所述轉印模具連接于所述支撐件，所述支撐件能夠帶動所述轉印模具運動；及

光學檢查系統，用于檢測所述轉印模具的表面質量。

在其中一個實施例中，所述轉印設備還包括清潔膠輥，所述清潔膠輥能夠與所述轉印模具接觸以清潔所述轉印模具的表面。