[發(fā)明專(zhuān)利]一種轉(zhuǎn)印方法以及轉(zhuǎn)印設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010170417.8
• 申請(qǐng)日: 2020-03-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111469571B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 易偉華;張迅;劉明禮;孫如;洪華俊;康利;向軍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 江西沃格光電股份有限公司深圳分公司
• 主分類(lèi)號(hào): B41M1/26
• 分類(lèi)號(hào): B41M1/26;B41M5/025;B41F16/00;B41F22/00;B41F33/00;B41F35/02
• 代理公司: 華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 朱志達(dá)

1.一種轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供轉(zhuǎn)印平臺(tái)和光學(xué)檢查系統(tǒng)，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)包括支撐件和轉(zhuǎn)印模具，所述支撐件設(shè)有多個(gè)工位，每一工位設(shè)置有所述轉(zhuǎn)印模具；

啟動(dòng)所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)，所述支撐件帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)印模具運(yùn)動(dòng)；

啟動(dòng)所述光學(xué)檢查系統(tǒng)，檢查所述轉(zhuǎn)印模具的表面質(zhì)量；以及

當(dāng)所述光學(xué)檢查系統(tǒng)檢查到所述轉(zhuǎn)印模具的表面存在缺陷時(shí)，停止設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)，以等待操作人員對(duì)有缺陷的所述轉(zhuǎn)印模具進(jìn)行更換或維修；當(dāng)所述轉(zhuǎn)印模具的表面質(zhì)量符合要求時(shí)，先采用清潔件對(duì)所述轉(zhuǎn)印模具進(jìn)行清潔，再由所述支撐件帶動(dòng)被檢測(cè)過(guò)的所述轉(zhuǎn)印模具運(yùn)動(dòng)至下一工位并進(jìn)行轉(zhuǎn)印加工。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，包括

所述轉(zhuǎn)印模具和所述支撐件分別呈透明狀，所述光學(xué)檢查系統(tǒng)包括光學(xué)探頭，所述光學(xué)探頭設(shè)置于所述轉(zhuǎn)印模具的背離所述支撐件的一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)印模具和所述支撐件分別呈透明狀，所述光學(xué)檢查系統(tǒng)包括光學(xué)探頭，所述光學(xué)探頭設(shè)置于所述支撐件的背離所述轉(zhuǎn)印模具的一側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，在檢查所述轉(zhuǎn)印模具的表面質(zhì)量的步驟中，包括：

所述支撐件能夠旋轉(zhuǎn)以帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)印模具運(yùn)動(dòng)，并使所述光學(xué)檢查系統(tǒng)檢查不同工位的所述轉(zhuǎn)印模具；

當(dāng)所述光學(xué)檢查系統(tǒng)檢查到所述轉(zhuǎn)印模具的表面存在缺陷時(shí)，所述光學(xué)檢查系統(tǒng)發(fā)出警報(bào)，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)停止運(yùn)轉(zhuǎn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，所述清潔件包括清潔膠輥和除靜電風(fēng)刀，所述清潔膠輥和所述除靜電風(fēng)刀相對(duì)設(shè)置，且在清潔所述轉(zhuǎn)印模具的過(guò)程中，所述清潔膠輥、所述除靜電風(fēng)刀分別垂直于所述支撐件的轉(zhuǎn)軸延伸方向。

6.一種轉(zhuǎn)印設(shè)備，其特征在于，包括：

轉(zhuǎn)印平臺(tái)，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)為透明狀，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)包括支撐件和轉(zhuǎn)印模具，所述轉(zhuǎn)印模具連接于所述支撐件，所述支撐件能夠帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)印模具運(yùn)動(dòng)；及

光學(xué)檢查系統(tǒng)，用于檢測(cè)所述轉(zhuǎn)印模具的表面質(zhì)量，所述光學(xué)檢查系統(tǒng)包括光學(xué)探頭和分析軟件，所述光學(xué)探頭安裝于所述支撐件的上方或者下方，所述光學(xué)探頭用于檢測(cè)所述轉(zhuǎn)印模具的表面缺陷，并將檢測(cè)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)傳送給所述分析軟件，所述分析軟件用于對(duì)所述檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)印設(shè)備，其特征在于，還包括清潔膠輥，所述清潔膠輥能夠與所述轉(zhuǎn)印模具接觸以清潔所述轉(zhuǎn)印模具的表面。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的轉(zhuǎn)印設(shè)備，其特征在于，所述清潔膠輥為回轉(zhuǎn)體，所述清潔膠輥具有第一端和第二端，所述第一端的直徑小于所述第二端的直徑，且所述第一端到所述第二端的直徑逐漸增大，所述清潔膠輥的母線長(zhǎng)度為L(zhǎng)，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)的中心到所述轉(zhuǎn)印模具的最大距離為S1，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)的中心到所述轉(zhuǎn)印模具的最小距離為S2，L大于等于D ，其中，D=（S1-S2）。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)印設(shè)備，其特征在于，還包括除靜電風(fēng)刀，所述除靜電風(fēng)刀用于去除所述轉(zhuǎn)印模具表面的靜電，所述除靜電風(fēng)刀的長(zhǎng)度為H, 所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)的中心到所述轉(zhuǎn)印模具的最大距離為S1，所述轉(zhuǎn)印平臺(tái)的中心到所述轉(zhuǎn)印模具的最小距離為S2，H等于或大于D，其中，D=（S1-S2）。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)印設(shè)備，其特征在于，所述支撐件設(shè)有多個(gè)工位，每一所述工位設(shè)有所述轉(zhuǎn)印模具。