[發(fā)明專利]一種物料傳輸裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010165327.X | 申請日: | 2020-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN111252536B | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王冰冰 | 申請(專利權(quán))人: | 上海御微半導體技術有限公司 |
| 主分類號: | B65G47/90 | 分類號: | B65G47/90;B65G29/00;B65G47/24 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區(qū)中國*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 物料 傳輸 裝置 | ||
1.一種物料傳輸裝置,其特征在于,包括:
基底庫,被配置為存儲基底;
機械手,可拆卸地安裝有叉子,所述叉子被配置為取放所述基底,所述機械手被配置為通過所述叉子移動所述基底;
所述機械手包括兩個機械臂,每個所述機械臂均可拆卸地安裝有所述叉子,分別為取放一般的標準片的第一叉子和取放超薄片的第二叉子;
預對準單元,被配置為對基底預對準;
輸出物料單元,被配置為輸出基板,以供后續(xù)工藝處理基底;
叉子庫,被配置為存儲至少兩種不同類型的叉子;
二次對準單元,位于所述機械手與所述輸出物料單元之間,被配置為對來自所述輸出物料單元且被后續(xù)工藝處理后的基底進行再對準,通過測量所述基底邊緣的光強,換算得出所述基底的X-Y位置,如果所述基底的X-Y位置與預設值偏差過大,則所述機械手進行相反地方向補償運動,保證所述基底能夠安全的回到所述基底庫中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料傳輸裝置,其特征在于,所述預對準單元與所述叉子庫分別位于所述機械手的相對兩側(cè);
所述基底庫與所述輸出物料單元分別位于所述機械手的相對兩側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料傳輸裝置,其特征在于,所述叉子庫包括叉子庫框架以及固定于所述叉子庫框架上的多個叉子存儲層,所述叉子存儲層包括定位銷,所述叉子包括定位孔,所述叉子放置到所述叉子存儲層后,所述定位銷插入所述定位孔中以固定所述叉子,所述多個叉子存儲層沿垂直方向分層排列。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的物料傳輸裝置,其特征在于,所述叉子存儲層包括氣缸以及頂桿;所述頂桿與所述氣缸相連接,并在所述氣缸驅(qū)動下沿著所述叉子存儲層所在平面內(nèi)伸縮運動;
所述叉子包括叉子表面凸起,所述叉子放置到所述叉子存儲層后,所述叉子表面凸起位于所述頂桿遠離所述氣缸一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料傳輸裝置,其特征在于,包括至少兩個預對準單元,以對至少兩種不同類型的基底預對準。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的物料傳輸裝置,其特征在于,所述至少兩個預對準單元包括第一預對準單元和第二預對準單元,所述第一預對準單元與所述第二預對準單元在垂直方向上疊置,所述第一預對準單元與所述第二預對準單元被配置為對兩種不同類型的基底預對準。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的物料傳輸裝置,其特征在于,所述第一預對準單元包括第一轉(zhuǎn)臺、固定于所述第一轉(zhuǎn)臺的多個真空吸附腔體、多個吸盤和第一電荷耦合器件;
所述多個吸盤被配置為在所述第一預對準單元中暫存所述基底,所述第一轉(zhuǎn)臺被配置為在垂直方向升降,并在升起時從所述多個吸盤上頂起所述基底,并在所述第一電荷耦合器件輔助下實現(xiàn)預對準;
所述第二預對準單元包括第二轉(zhuǎn)臺、U型暫存部和第二電荷耦合器件;
所述U型暫存部位于所述第二轉(zhuǎn)臺的外圍,被配置為在所述第二預對準單元中暫存所述基底;所述第二轉(zhuǎn)臺被配置為在垂直方向升降,并在升起時從所述U型暫存部頂起所述基底,并在所述第二電荷耦合器件輔助下實現(xiàn)預對準。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料傳輸裝置,其特征在于,所述二次對準單元包括多個傳感器組件,所述傳感器組件包括發(fā)射器和接收器,所述發(fā)射器與所述接收器沿垂直方向上對置。
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