[發(fā)明專(zhuān)利]一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010165165.X
• 申請(qǐng)日: 2020-03-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111218670A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭錦
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南京原磊納米材料有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/455
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 北京專(zhuān)贏專(zhuān)利代理有限公司 11797
• 代理人: 劉梅

本發(fā)明屬于原子層鍍膜領(lǐng)域，具體是一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)，包括在內(nèi)部上設(shè)置有半月板的內(nèi)反應(yīng)腔，和內(nèi)反應(yīng)腔蓋；在所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋上貫穿有電機(jī)軸，而電機(jī)軸一端固定在步進(jìn)電機(jī)上，另一端與半月板連接；內(nèi)反應(yīng)腔蓋上開(kāi)設(shè)有多片呈環(huán)形陣列分布的通孔片區(qū)，而通孔片區(qū)是由多個(gè)呈陣列分布的連接孔組成；所述半月板上放置有多個(gè)呈環(huán)形分布的晶圓；導(dǎo)入的氮?dú)馔ㄟ^(guò)內(nèi)反應(yīng)腔蓋上的通孔片區(qū)中的多個(gè)呈陣列分布的連接孔流向晶圓表面，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，而多片呈環(huán)形陣列分布的通孔片區(qū)配合半月板相對(duì)內(nèi)反應(yīng)腔蓋轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)氮?dú)饩鶆蛄飨蚓A表面，氮?dú)鈿饬鞣€(wěn)定，鍍膜的均勻性高；半月板上一次性放置有多個(gè)呈環(huán)形分布的晶圓進(jìn)行鍍膜，極大的提高了工作效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及原子層鍍膜領(lǐng)域，具體是一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)

已有的空間ALD（atomic layer deposition，單原子層沉積）機(jī)臺(tái)普遍體積較大，且結(jié)構(gòu)復(fù)雜，前驅(qū)體氣路和吹掃氣路作為不同的腔體，是完全分開(kāi)的；而另外多片工藝的ALD機(jī)臺(tái)設(shè)計(jì)如：Picosun （芬蘭ALD設(shè)備供應(yīng)商）都是利用金屬cassette（晶圓裝載盒）的方法，這種方法會(huì)導(dǎo)致運(yùn)送晶圓十分復(fù)雜，而且不穩(wěn)定，手動(dòng)取片比較多，如果使用自動(dòng)化的方法，經(jīng)常出現(xiàn)掉片的現(xiàn)象；ASM（美國(guó)ALD設(shè)備供應(yīng)商）及TEL（日本ALD設(shè)備供應(yīng)商）的多片式ALD爐子方法所使用氣體及前驅(qū)體使用效率低，會(huì)造成巨大的浪費(fèi)。

因此，針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)，包括在內(nèi)部上設(shè)置有半月板的內(nèi)反應(yīng)腔，所述該鍍膜機(jī)還包括內(nèi)反應(yīng)腔蓋，所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋安裝在所述內(nèi)反應(yīng)腔頂部；

在所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋上轉(zhuǎn)動(dòng)貫穿有電機(jī)軸，而電機(jī)軸一端固定在步進(jìn)電機(jī)的輸出軸上，另一端與半月板連接；其中，在靠近半月板一側(cè)的內(nèi)反應(yīng)腔蓋上開(kāi)設(shè)有多片呈環(huán)形陣列分布的通孔片區(qū)，而通孔片區(qū)是由多個(gè)呈陣列分布的連接孔組成；

所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋外接有前驅(qū)體源管道和氮?dú)夤艿溃?/p>

在靠近所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋一側(cè)的半月板上放置有多個(gè)呈環(huán)形分布的晶圓；

啟動(dòng)步進(jìn)電機(jī)，步進(jìn)電機(jī)通過(guò)電機(jī)軸帶動(dòng)半月板轉(zhuǎn)動(dòng)，完成半月板相對(duì)內(nèi)反應(yīng)腔蓋轉(zhuǎn)動(dòng)，氮?dú)夤艿乐袑?dǎo)入的氮?dú)馔ㄟ^(guò)內(nèi)反應(yīng)腔蓋上的通孔片區(qū)中的多個(gè)呈陣列分布的連接孔流向晶圓表面，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，而多片呈環(huán)形陣列分布的通孔片區(qū)配合半月板相對(duì)內(nèi)反應(yīng)腔蓋轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)氮?dú)饩鶆蛄飨蚓A表面，氮?dú)鈿饬鞣€(wěn)定，鍍膜的均勻性高；同時(shí)半月板上一次性放置有多個(gè)呈環(huán)形分布的晶圓進(jìn)行鍍膜，極大的提高了工作效率。

本發(fā)明進(jìn)一步的方案：在所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋中心位置處配合電機(jī)軸開(kāi)設(shè)有穿插孔。

本發(fā)明再進(jìn)一步的方案：所述通孔片區(qū)在內(nèi)反應(yīng)腔蓋上開(kāi)設(shè)有十二個(gè)，且呈環(huán)形陣列分布。

本發(fā)明再進(jìn)一步的方案：所述晶圓在半月板上放置有三個(gè)，且半月板上開(kāi)始有用于限位晶圓的卡槽。

本發(fā)明再進(jìn)一步的方案：所述內(nèi)反應(yīng)腔外側(cè)安裝有隔熱屏，隔熱屏頂部可分離式限位在內(nèi)反應(yīng)腔蓋上，在隔熱屏內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)電加熱絲。

本發(fā)明再進(jìn)一步的方案：在所述內(nèi)反應(yīng)腔底部連接有粉末收集器，粉末收集器另一端連接在真空泵上，而真空泵上連接有酸性排氣腔。

本發(fā)明再進(jìn)一步的方案：所述半月板上放置有三個(gè)呈環(huán)形分布的晶圓。

本發(fā)明再進(jìn)一步的方案：在所述內(nèi)反應(yīng)腔蓋上固定有電缸Ⅰ和電缸Ⅱ，而電缸Ⅰ和電缸Ⅱ安裝在電缸支架上。

進(jìn)而，啟動(dòng)電缸Ⅰ和電缸Ⅱ，并在電缸支架的支撐下，實(shí)現(xiàn)提升抬離內(nèi)反應(yīng)腔蓋。