[發明專利]一種改進型ALD鍍膜機

在審

• 申請號: 202010165165.X
• 申請日: 2020-03-11
• 公開（公告）號: CN111218670A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 鄭錦
• 申請（專利權）人: 南京原磊納米材料有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 北京專贏專利代理有限公司 11797
• 代理人: 劉梅

1.一種改進型ALD鍍膜機，包括在內部上設置有半月板（9）的內反應腔（8），其特征在于，該鍍膜機還包括內反應腔蓋（5），所述內反應腔蓋（5）安裝在所述內反應腔（8）頂部；

在所述內反應腔蓋（5）上轉動貫穿有電機軸（3），而電機軸（3）一端固定在步進電機（2）的輸出軸上，另一端與半月板（9）連接；其中，在靠近半月板（9）一側的內反應腔蓋（5）上開設有多片呈環形陣列分布的通孔片區（51），而通孔片區（51）是由多個呈陣列分布的連接孔組成；

所述內反應腔蓋（5）外接有前驅體源管道和氮氣管道；

在靠近所述內反應腔蓋（5）一側的半月板（9）上放置有多個呈環形分布的晶圓（91）。

2.根據權利要求1所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，在所述內反應腔蓋（5）中心位置處配合電機軸（3）開設有穿插孔。

3.根據權利要求1所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，所述通孔片區（51）在內反應腔蓋（5）上開設有十二個，且呈環形陣列分布。

4.根據權利要求1所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，所述晶圓（91）在半月板（9）上放置有三個，且半月板（9）上開始有用于限位晶圓（91）的卡槽。

5.根據權利要求1所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，所述內反應腔（8）外側安裝有隔熱屏（6），隔熱屏（6）頂部可分離式限位在內反應腔蓋（5）上，在隔熱屏（6）內部設置有多個電加熱絲（7）。

6.根據權利要求1或5所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，在所述內反應腔（8）底部連接有粉末收集器（11），粉末收集器（11）另一端連接在真空泵（12）上，而真空泵（12）上連接有酸性排氣腔（13）。

7.根據權利要求1所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，所述半月板（9）上放置有三個呈環形分布的晶圓（91）。

8.根據權利要求1或5所述的一種改進型ALD鍍膜機，其特征在于，在所述內反應腔蓋（5）上固定有電缸Ⅰ（1）和電缸Ⅱ（4），而電缸Ⅰ（1）和電缸Ⅱ（4）安裝在電缸支架（10）上。