[發(fā)明專利]平板探測器殘影校正方法、裝置、存儲介質(zhì)及醫(yī)療設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010158713.6 | 申請日: | 2020-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN111445397B | 公開(公告)日: | 2023-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李海春;李天華;朱洪陽 | 申請(專利權(quán))人: | 東軟醫(yī)療系統(tǒng)股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人: | 靳玫 |
| 地址: | 110167 遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平板 探測器 校正 方法 裝置 存儲 介質(zhì) 醫(yī)療 設(shè)備 | ||
1.一種平板探測器殘影校正方法,其特征在于,所述方法包括:
獲得對被檢體掃描得到的當前幀DR圖像及之前的多組連續(xù)的DR圖像,每組所述DR圖像包括亮場圖像和暗場圖像;
對于所述多組連續(xù)的DR圖像中的任一組,判斷該組DR圖像對應(yīng)的曝光屬于飽和曝光還是非飽和曝光;所述非飽和曝光指曝光時X射線的入射劑量未超過飽和閾值,所述DR圖像的圖像均值未超過飽和灰度閾值;所述飽和曝光指曝光時X射線的入射劑量超過飽和閾值,所述DR圖像的圖像均值超過飽和灰度閾值;
若為飽和曝光,則根據(jù)已確定的飽和曝光殘影補償系數(shù)、該組DR圖像中的亮場圖像,以及已確定的最終連續(xù)型飽和殘影衰減曲線,確定該組DR圖像中的亮場圖像殘留在所述當前幀DR圖像中的殘影值;
若為非飽和曝光,則根據(jù)已確定的非飽和曝光殘影補償系數(shù)、該組DR圖像中的暗場圖像,以及已確定的最終連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線,確定該組DR圖像中的亮場圖像殘留在所述當前幀DR圖像中的殘影值;
以所述當前幀DR圖像減去各組所述DR圖像中的亮場圖像殘留在所述當前幀DR圖像中的殘影值之和,獲得殘影校正后的DR圖像;
所述最終連續(xù)型飽和殘影衰減曲線的確定包括如下步驟:
采集曝光之前的暗場圖像;
采集無負載飽和曝光情況下的亮場圖像,并在曝光之后設(shè)定時間段內(nèi)每間隔設(shè)定時間采集一張暗場圖像;
根據(jù)所述曝光之前的暗場圖像、所述無負載飽和曝光情況下的所述亮場圖像以及曝光之后的各暗場圖像,生成離散型飽和殘影衰減曲線;
對所述離散型飽和殘影衰減曲線進行擬合,得到所述最終連續(xù)型飽和殘影衰減曲線;所述最終連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線的確定包括如下步驟:
采集曝光之前的暗場圖像;
采集無負載非飽和曝光情況下的亮場圖像,并在曝光之后設(shè)定時間段內(nèi)每間隔設(shè)定時間采集一張暗場圖像;
根據(jù)曝光之前的所述暗場圖像、無負載非飽和曝光情況下的所述亮場圖像、以及曝光之后的各所述暗場圖像,生成離散型非飽和殘影衰減曲線;
對所述離散型非飽和殘影衰減曲線進行擬合,得到所述最終連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線;
所述飽和曝光殘影補償系數(shù)的確定包括如下步驟:
采集無負載飽和曝光情況下的第一亮場圖像;
采集帶負載飽和曝光情況下的亮場圖像;
再次采集無負載飽和曝光情況下的第二亮場圖像;
根據(jù)待定的飽和曝光殘影補償系數(shù)、帶負載飽和曝光情況下的所述亮場圖像和所述連續(xù)型飽和殘影衰減曲線,確定所述第二亮場圖像中的殘影值;
將所述第二亮場圖像減去第一亮場圖像得到的差值,與所述第二亮場圖像中的殘影值進行比較,計算出所述飽和曝光殘影補償系數(shù);
所述非飽和曝光殘影補償系數(shù)的確定包括如下步驟:
采集無負載非飽和曝光情況下的第三亮場圖像;
采集帶負載非飽和曝光情況下的亮場圖像及曝光后的暗場圖像;
再次采集無負載非飽和曝光情況下的第四亮場圖像;
根據(jù)待定的非飽和曝光殘影補償系數(shù)、帶負載非飽和曝光后的所述暗場圖像和所述連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線,確定所述第四亮場圖像中的殘影值;
將所述第四亮場圖像減去第三亮場圖像得到的差值,與所述第四亮場圖像中的殘影值進行比較,計算出所述非飽和曝光殘影補償系數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述離散型飽和殘影衰減曲線進行擬合,得到所述最終連續(xù)型飽和殘影衰減曲線,包括:
對所述離散型飽和殘影衰減曲線進行擬合,得到原始連續(xù)型飽和殘影衰減曲線;
根據(jù)所述原始連續(xù)型飽和殘影衰減曲線和設(shè)定閾值,確定所述原始連續(xù)型飽和殘影衰減曲線對應(yīng)的飽和衰減時間閾值;
根據(jù)所述飽和衰減時間閾值,對所述原始連續(xù)型飽和殘影衰減曲線進行修正,得到所述最終連續(xù)型飽和殘影衰減曲線;
所述對所述離散型非飽和殘影衰減曲線進行擬合,得到所述最終連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線,包括:
對所述離散型非飽和殘影衰減曲線進行擬合,得到原始連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線;
根據(jù)所述原始連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線和設(shè)定閾值,確定所述原始連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線對應(yīng)的非飽和衰減時間閾值;
根據(jù)所述非飽和衰減時間閾值,對所述原始連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線進行修正,得到所述最終連續(xù)型非飽和殘影衰減曲線。
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