[發明專利]PECVD射頻饋入電極系統及PECVD裝置在審
| 申請號: | 202010157431.4 | 申請日: | 2020-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN111218674A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 鄧必龍;鄭利勇 | 申請(專利權)人: | 龍鱗(深圳)新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/505 | 分類號: | C23C16/505 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬;潘登 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市坪山區坪山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | pecvd 射頻 電極 系統 裝置 | ||
1.一種PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,包括射頻電極片(4)、第一電極、第二電極和兩個通斷控制組件,所述第一電極的延伸方向與所述第二電極的延伸方向呈夾角設置;
所述通斷控制組件包括靜觸端(1)、動觸端(2)和驅動件,兩個所述靜觸端(1)均與所述射頻電極片(4)連接,且兩個所述動觸端(2)分別與所述第一電極和所述第二電極連接,或者兩個所述動觸端(2)均能與所述射頻電極片(4)連接,且兩個所述靜觸端(1)分別與所述第一電極和第二電極連接;
所述動觸端(2)具有第一位置和第二位置,所述驅動件與所述動觸端(2)連接,以驅動所述動觸端(2)在所述第一位置和所述第二位置之間切換,當所述動觸端(2)位于所述第一位置時,所述動觸端(2)與所述靜觸端(1)連接,當所述動觸端(2)位于所述第二位置時,所述動觸端(2)與所述靜觸端(1)分離。
2.根據權利要求1所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述通斷控制組件還包括與所述靜觸端(1)連接的饋入電極(5),兩個所述饋入電極(5)分別與所述第一電極和所述第二電極連接,兩個所述動觸端(2)均與所述射頻電極片(4)連接。
3.根據權利要求2所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述PECVD射頻饋入電極系統還包括絕緣材質制成的底座(8),各個所述饋入電極(5)均固定于所述底座(8)。
4.根據權利要求1所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述動觸端(2)與所述靜觸端(1)面接觸。
5.根據權利要求1所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述動觸端(2)和所述靜觸端(1)中的一個包括插片(21),另一個包括插槽(13),當所述動觸端(2)位于所述第一位置時,所述插片(21)與所述插槽(13)插接,且所述插片(21)與所述插槽(13)的槽壁貼合。
6.根據權利要求5所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述插槽(13)由間隔且相對設置的兩個彈性片(12)形成,當所述動觸端(2)位于所述第一位置時,兩個所述彈性片(12)均能夠抵緊所述插片(21)。
7.根據權利要求6所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述彈性片(12)包括支撐片(121),以及連接于所述支撐片(121)的弧形片(122),兩個所述彈性片(12)的所述弧形片(122)之間形成所述插槽(13),當所述動觸端(2)位于所述第一位置時,兩個所述弧形片(122)均能夠抵緊所述插片(21)。
8.根據權利要求1所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,兩個所述動觸端(2)均能與所述射頻電極片(4)連接,且兩個所述靜觸端(1)分別與所述第一電極和第二電極連接,所述通斷控制組件還包括彈性連接件(6),所述彈性連接件(6)分別與所述動觸端(2)連接和所述射頻電極片(4)連接。
9.根據權利要求8所述的PECVD射頻饋入電極系統,其特征在于,所述彈性連接件(6)呈幾字形且由金屬片折彎而成,所述彈性連接件(6)的兩個自由端中的一個與所述射頻電極片(4),另一個與對應的所述動觸端(2)連接。
10.一種PECVD裝置,其特征在于,包括權利要求1-9任一項所述的PECVD射頻饋入電極系統。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





