[發(fā)明專利]光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)軌跡規(guī)劃方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010152302.6
• 申請(qǐng)日: 2020-03-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111474825B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賈松濤;李猛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 固高科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 方高明

本申請(qǐng)涉及一種光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)軌跡規(guī)劃方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。方法包括：獲取預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡的預(yù)設(shè)規(guī)劃值和約束條件；根據(jù)預(yù)設(shè)規(guī)劃值和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓，確定預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的初始時(shí)長(zhǎng)；三階掃描階段軌跡輪廓包括加加速運(yùn)動(dòng)階段、勻加速運(yùn)動(dòng)階段、減加速運(yùn)動(dòng)階段和勻速運(yùn)動(dòng)階段；根據(jù)約束條件對(duì)初始時(shí)長(zhǎng)進(jìn)行處理，得到預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的目標(biāo)時(shí)長(zhǎng)；根據(jù)目標(biāo)時(shí)長(zhǎng)和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓中加加速度與時(shí)間的初始函數(shù)關(guān)系，確定加加速度與時(shí)間的目標(biāo)函數(shù)關(guān)系式；通過(guò)計(jì)算目標(biāo)函數(shù)關(guān)系式的三重積分，確定預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡的位移隨時(shí)間變化的曲線。采用本方法能夠提高光刻機(jī)的運(yùn)動(dòng)精度以及光刻精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及集成電路技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)軌跡規(guī)劃方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

隨著集成電路加工密度提升和集成度的增加，光刻機(jī)工作臺(tái)對(duì)運(yùn)動(dòng)控制的精度要求也越來(lái)越高，而光刻機(jī)的軌跡規(guī)劃精直接決定了運(yùn)動(dòng)控制的精度。步進(jìn)式光刻機(jī)在光刻過(guò)程中，掩膜版和晶圓各自安裝載在掩模臺(tái)(reticle?stage)和硅片臺(tái)(wafer?stage)。當(dāng)曝光時(shí)，掩膜版和晶圓運(yùn)動(dòng)到規(guī)定的位置，光源打開(kāi)；光線通過(guò)掩膜版后，經(jīng)過(guò)透鏡，該透鏡能夠?qū)㈦娐穲D案縮小至原來(lái)的四分之一，然后投射到晶圓上，使光刻膠部分感光；光刻時(shí)，掩膜版和承載晶圓的同時(shí)運(yùn)動(dòng)，使光線以掃描的方式掃過(guò)一個(gè)硅片裸區(qū)(die)，從而將電路圖案刻在晶圓上。運(yùn)動(dòng)軌跡對(duì)系統(tǒng)有一定的沖擊，需要等到系統(tǒng)振動(dòng)幅值小于一定閾值才能進(jìn)行曝光。然而，光刻機(jī)按照目前的運(yùn)動(dòng)軌跡加速到最大速度后，振動(dòng)幅值較大，收斂時(shí)間較長(zhǎng)，導(dǎo)致光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)精度以及光刻精度低。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種能夠提高光刻機(jī)的運(yùn)動(dòng)精度以及光刻精度的光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)軌跡規(guī)劃方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。

一種光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)軌跡規(guī)劃方法，所述方法包括：

獲取預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡的預(yù)設(shè)規(guī)劃值和約束條件；

根據(jù)所述預(yù)設(shè)規(guī)劃值和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓，確定所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的初始時(shí)長(zhǎng)；所述三階掃描階段軌跡輪廓包括加加速運(yùn)動(dòng)階段、勻加速運(yùn)動(dòng)階段、減加速運(yùn)動(dòng)階段和勻速運(yùn)動(dòng)階段；

根據(jù)所述約束條件對(duì)所述初始時(shí)長(zhǎng)進(jìn)行處理，得到所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的目標(biāo)時(shí)長(zhǎng)；

根據(jù)所述目標(biāo)時(shí)長(zhǎng)和所述三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓中加加速度與時(shí)間的初始函數(shù)關(guān)系，確定所述加加速度與時(shí)間的目標(biāo)函數(shù)關(guān)系式；

通過(guò)計(jì)算所述目標(biāo)函數(shù)關(guān)系式的三重積分，確定所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡的位移隨時(shí)間變化的曲線。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)規(guī)劃值包括所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡的最大加加速度、最大加速度、初始速度、最大速度和目標(biāo)位移。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述約束條件包括所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡對(duì)應(yīng)的最大加加速度約束、勻速段加速度約束、勻速段速度約束、位移約束和振動(dòng)約束。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，在所述根據(jù)所述預(yù)設(shè)規(guī)劃值和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓，確定所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的初始時(shí)長(zhǎng)之前，所述方法還包括：

檢測(cè)所述最大速度與所述最大加加速度的乘積值是否大于所述最大加速度的平方值；

當(dāng)所述最大速度與所述最大加加速度的乘積值大于所述最大加速度的平方值時(shí)，所述根據(jù)所述預(yù)設(shè)規(guī)劃值和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓，確定所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的初始時(shí)長(zhǎng)，包括：

根據(jù)所述最大速度、所述最大加加速度、所述最大加速度和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓，確定所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的初始時(shí)長(zhǎng)；

當(dāng)所述最大速度與所述最大加加速度的乘積值小于或等于所述最大加速度的平方值時(shí)，所述根據(jù)所述預(yù)設(shè)規(guī)劃值和三階掃描運(yùn)動(dòng)軌跡輪廓，確定所述預(yù)設(shè)運(yùn)動(dòng)軌跡中加加速度的初始時(shí)長(zhǎng)，包括：