[發明專利]間接加熱蒸鍍源在審
| 申請號: | 202010147670.1 | 申請日: | 2020-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN111826613A | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 菅原康司;上岡昌典;鈴木康輔;高島徹;谷口明;三澤啟一;佐野纮晃 | 申請(專利權)人: | 日本電子株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 間接 加熱 蒸鍍源 | ||
本發明提供一種能夠謀求容器的大容量化的間接加熱蒸鍍源。間接加熱蒸鍍源(1)具備:容器(內襯(2)),其形成為有底的筒狀,且供蒸鍍材料(4)填充;容器保持部(保持件(3)),其保持容器;電子源(8),其放出用于對容器進行電子沖擊加熱的熱電子(電子束(25));以及掃描線圈(21),其使自電子源放出的熱電子的照射范圍擴大。
技術領域
本發明涉及一種間接加熱蒸鍍源,該間接加熱蒸鍍源通過電子束沖擊(轟擊)對填充有蒸鍍材料的容器進行加熱,從而對蒸鍍材料進行加熱使其蒸發。
背景技術
以往,已知一種蒸鍍裝置,其在真空室內配置有基板,且朝向該基板設置了蒸鍍源,作為間接加熱蒸鍍源,存在一種向填充有蒸鍍材料的容器放出電子束(熱電子)的電子射線沖擊型蒸鍍源(例如參照專利文獻1)。
專利文獻1所記載的間接加熱蒸鍍源具備容器、電子源、容器保持部、移動機構、以及冷卻臺。電子源向容器的底部放出熱電子。容器保持部使容器的底部暴露地保持容器。移動機構使容器保持部驅動,使容器沿水平方向移動。冷卻臺具有與通過移動機構從電子源的上方沿水平方向移動的容器的底部接觸的上表面來對容器進行冷卻。
專利文獻1:日本特開2018-16836號公報
發明內容
另外,對于專利文獻1所記載那樣的間接加熱蒸鍍源,期望容器的大容量化。
本發明是鑒于上述狀況而完成的,其目的在于提供一種能夠謀求容器的大容量化的間接加熱蒸鍍源。
本發明的間接加熱蒸鍍源的一技術方案具備容器、容器保持部、電子源、以及掃描線圈。容器形成為有底的筒狀,且供蒸鍍材料填充。容器保持部保持容器。電子源放出用于對容器進行電子沖擊加熱的熱電子。掃描線圈使自電子源放出的熱電子的照射范圍擴大。
如上述那樣,在本發明的一技術方案中,由于掃描線圈使自電子源放出的熱電子的照射范圍擴大,因此能夠擴大容器的加熱區域,能夠謀求容器的大容量化。
附圖說明
圖1是本發明的第1實施方式的間接加熱蒸鍍源的概略結構圖。
圖2是本發明的第2實施方式的間接加熱蒸鍍源的概略結構圖。
圖3是本發明的第3實施方式的間接加熱蒸鍍源的概略結構圖。
圖4是表示本發明的掃描線圈的四方掃描模式的線圈電流波形的例子的圖。
圖5是表示本發明的掃描線圈的圓形掃描模式的線圈電流波形的例子的圖。
1、31、41、間接加熱蒸鍍源;2、內襯;2a、底部;2b、周壁部;2c、凸緣部;3、保持件;3a、保持用孔;4、蒸鍍材料;5、反射器;5a、筒狀部;5b、凸緣部;7、防護罩;8、電子源;9、加速電源;14、旋轉驅動軸;15、防護突起部;17、上表面板;17a、蒸發用通孔;18、側面板;21、掃描線圈;22、塊;23、掃描線圈電流驅動部;24、陽極;25、電子束;26、掃描線圈電流波形控制部;27、操作部;120、基板保持部;121、基板;122、旋轉驅動軸。
具體實施方式
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日本電子株式會社,未經日本電子株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010147670.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





