[發(fā)明專利]放射線成像裝置、圖像處理裝置及方法和存儲介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010146641.3
• 申請日: 2020-03-05
• 公開（公告）號: CN111685782A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發(fā)明（設計）人: 林田真昌;高崎孝
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;李艷麗

本發(fā)明公開了放射線成像裝置、圖像處理裝置及方法和存儲介質(zhì)。一種圖像處理裝置，其處理從成像傳感器獲得的圖像，該成像傳感器具有以矩陣模式布置的多個像素，像素包括用于獲得與放射線劑量對應的像素值的第一像素組和用于甚至在用放射線進行照射的情況下獲得偏移值的第二像素組，該圖像處理裝置基于在沒有用放射線進行照射的情況下通過成像操作從該多個像素獲得的暗圖像對在用放射線進行照射的情況下通過成像操作從該多個像素獲得的放射線圖像執(zhí)行偏移校正、計算經(jīng)校正的放射線圖像的從第二像素組獲得的像素值的統(tǒng)計值，以及基于統(tǒng)計值的時間上的變化對已經(jīng)被偏移校正的從第一像素組獲得的像素值進行校正。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及使用固態(tài)成像設備的放射線成像裝置、圖像處理裝置、圖像處理方法和計算機可讀存儲介質(zhì)。

背景技術(shù)

作為用于使用放射線(諸如X射線)進行醫(yī)學圖像診斷和非破壞性檢查的放射線成像裝置，具有以矩陣模式布置的、作為開關(guān)(諸如TFT(薄膜晶體管))和轉(zhuǎn)換元件(諸如光電轉(zhuǎn)換元件)的組合的像素的放射線成像裝置已經(jīng)投入實踐。在這種類型的放射線成像裝置中，制造變化、環(huán)境變化(諸如溫度變化)等造成對于每個像素而言在沒有任何照射的情況下輸出的值的變化(即，偏移輸出)。因而，執(zhí)行偏移校正以校正這些變化。

作為執(zhí)行上述偏移校正的一種方法，計算偏移信號(偏移圖像)與成像時的輸出之間的差的方法被使用。這個偏移信號是通過在成像之前在沒有用放射線照射的情況下獲得多個圖像并計算結(jié)果所得的像素值的平均值而獲得的。這種偏移校正方法不需要在放射線成像之前和之后獲得任何偏移圖像，因此適合于諸如要求高幀速率的移動圖像成像之類的高速成像。此外，因為偏移圖像是從多個獲得的圖像生成的，所以這種方法具有降低偏移圖像中的噪聲的優(yōu)點。

日本專利公開No.2007-019820(被稱為專利文獻1)公開了一種方法，除了用于獲得放射線信號的光電轉(zhuǎn)換元件之外，該方法還為每個像素提供了被遮光的光學黑像素以獲得偏移信號，并使用來自光學黑像素的輸出。專利文獻1公開了一種放射線檢測裝置，該放射線檢測裝置具有從有效像素區(qū)域中的光學黑像素的輸出中掌握有效像素區(qū)域中的偏移信號的陰影(shading)并抑制在從有效像素區(qū)域獲得的圖像中造成的陰影的功能。

在上述偏移校正方法中，獲得偏移圖像的時間與成像的時間之間發(fā)生時間差，并且該時間差造成溫度分布在裝置中的發(fā)熱元件附近的區(qū)域與遠離發(fā)熱元件的區(qū)域之間具有溫度差。這種溫度分布改變了偏移輸出，因此偏移值在像素矩陣平面中移位。這種移位在視覺上被識別為圖像偽影。近年來，存在朝向更薄更輕的放射線成像裝置的趨勢。這趨于增加放射線成像裝置殼體中的發(fā)熱元件(諸如電源和高密度電氣部件)的影響。專利文獻1在某種程度上參考了陰影的偏移校正，但是沒有參考上述的偏移分量的時間上的變化。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供了一種減少放射線成像裝置中由成像期間造成的偏移分量的時間上的變化造成的圖像質(zhì)量劣化的技術(shù)。

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種圖像處理裝置，該圖像處理裝置處理從成像傳感器獲得的圖像，成像傳感器具有以矩陣模式布置的多個像素，像素包括用于獲得與放射線劑量對應的像素值的第一像素組和用于甚至在用放射線進行照射的情況下獲得偏移值的第二像素組，該裝置包括：第一校正單元，被配置為基于在沒有用放射線進行照射的情況下通過成像操作從該多個像素獲得的暗圖像，對在用放射線進行照射的情況下通過成像操作從該多個像素獲得的放射線圖像執(zhí)行偏移校正；計算單元，被配置為計算由第一校正單元校正的放射線圖像的從第二像素組獲得的像素值的統(tǒng)計值；以及第二校正單元，被配置為基于由計算單元獲得的統(tǒng)計值的時間上的變化，對被第一校正單元校正的從第一像素組獲得的像素值進行校正。