[發(fā)明專利]一種取向硅鋼滲氮裝置及其滲氮方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010146107.2 | 申請日: | 2020-03-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111304583B | 公開(公告)日: | 2022-04-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 裴英豪;朱濤;夏雪蘭;胡柯;施立發(fā);沈新玉;杜軍;張振海 | 申請(專利權(quán))人: | 馬鞍山鋼鐵股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C8/38 | 分類號(hào): | C23C8/38;C23C8/02 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107 | 代理人: | 蔣兵魁 |
| 地址: | 243041 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 取向 硅鋼 裝置 及其 方法 | ||
本發(fā)明提供一種應(yīng)用于冶金技術(shù)領(lǐng)域的取向硅鋼滲氮方法,本發(fā)明還涉及一種取向硅鋼滲氮裝置,所述的取向硅鋼滲氮方法的滲氮方法的滲氮步驟為:前導(dǎo)電密封輥(7)通電使得清理與活化段(2)內(nèi)的氫離子化,對(duì)待處理硅鋼(13)表面進(jìn)行清理和活化;待處理硅鋼(13)進(jìn)入滲氮段(3),離子對(duì)待處理硅鋼(13)進(jìn)行滲氮處理;待處理硅鋼(13)進(jìn)入密封室(4),密封室(4)內(nèi)的后導(dǎo)電密封輥(8)通電去除待處理硅鋼(13)表面的氧化層,完成滲氮處理,本發(fā)明所述的取向硅鋼滲氮裝置和滲氮方法,使得鋼帶表面清潔和具有活性,使得氨氣進(jìn)行滲氮過程快速、均勻,取向硅鋼加工質(zhì)量高。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于冶金技術(shù)領(lǐng)域,尤其是取向硅鋼生產(chǎn)裝置、加工方法技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,是涉及一種取向硅鋼滲氮方法,本發(fā)明還涉及一種取向硅鋼滲氮裝置。
背景技術(shù)
取向硅鋼(取向電工鋼帶)的生產(chǎn)是通過轉(zhuǎn)爐、RH冶煉合格鋼水,鋼水連鑄為厚的鋼坯,厚的鋼坯通過高溫加熱,熱軋減薄到適合冷軋的厚度。熱軋鋼帶通過常化、噴丸、酸洗、冷軋、脫碳退火、涂層、長周期的高溫退火、熱拉伸平整獲得縱向鐵損非常低和磁感非常高的磁性材料。一般來說,取向電工鋼帶要獲得縱向鐵損非常低和磁感非常高的磁性能,在化學(xué)成分控制非常嚴(yán)格的條件下(內(nèi)生抑制劑),通過熱軋坯加熱在最終高溫退火前進(jìn)行引入外部抑制劑(滲氮),從而獲得縱向磁性能大幅度提高。滲氮方法一般有氣體法、固體法和離子法,這些方法均為為工件長周期退火(5小時(shí)以上)。對(duì)于電工鋼而言,為了簡化生產(chǎn)流程,在連續(xù)退火生產(chǎn)線上滲氮,鋼帶非常薄(一般厚度0.15~0.30mm)滲氮時(shí)間非常短,滲氮質(zhì)量難以控制,同時(shí)增加生產(chǎn)線長度和控制難度。
現(xiàn)有技術(shù)中的取向電工鋼,由于質(zhì)量要求,厚度越來越薄,因此生產(chǎn)過程的脫碳和滲氮均在連續(xù)生產(chǎn)線完成。由于連續(xù)生產(chǎn)線的各段連接在一起,防止氧化的保護(hù)氣氛、含有水分的脫碳?xì)夥铡B氮的氫氮氨氣混合氣氛需要互相隔離,為了達(dá)到功能目的,難度非常大。此外鋼帶通過連續(xù)生產(chǎn)線保持表面活性非常困難。由于沒有考慮鋼帶表面清理和活化,造成滲氮的“孕育期”比較長,同時(shí)帶來產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定或生產(chǎn)線增加長度等一系列問題(或降低生產(chǎn)線運(yùn)行速度,產(chǎn)量和質(zhì)量降低)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:針對(duì)取向硅鋼(取向電工鋼帶、電工鋼)在連續(xù)生產(chǎn)線脫碳和滲氮過程中,由于表面惰性層的存在,造成滲氮孕育期時(shí)間過長和滲氮不穩(wěn)定,以致造成取向硅鋼滲氮效果不佳的技術(shù)問題進(jìn)行改進(jìn),通過對(duì)滲氮(脫碳)前的取向硅鋼表面進(jìn)行清理和活化,使得鋼帶表面清潔和具有活性,從而使得氨氣進(jìn)行滲氮過程快速、均勻,取向硅鋼加工質(zhì)量高的取向硅鋼滲氮方法。
要解決以上所述的技術(shù)問題,本發(fā)明采取的技術(shù)方案為:
本發(fā)明為一種取向硅鋼滲氮方法,所述的取向硅鋼滲氮方法的滲氮方法的滲氮步驟為:1)前導(dǎo)電密封輥引導(dǎo)待處理硅鋼連續(xù)進(jìn)入裝置殼體,再經(jīng)過滲氮段后通過后導(dǎo)電密封輥引導(dǎo)離開裝置殼體;2)前導(dǎo)電密封輥通電使得清理與活化段內(nèi)的氫離子化,對(duì)待處理硅鋼表面進(jìn)行清理和活化;3)清理和活化處理的待處理硅鋼離開清理與活化段進(jìn)入滲氮段,通電離子化的氨氣分解形成的具有活性的離子對(duì)待處理硅鋼進(jìn)行滲氮處理;4)滲氮處理的待處理硅鋼離開滲氮段進(jìn)入密封室,密封室內(nèi)的后導(dǎo)電密封輥通電去除待處理硅鋼表面的氧化層;5)去除表面的氧化層的待處理硅鋼輸出裝置殼體,完成滲氮處理。
所述的清理與活化段對(duì)待處理硅鋼處理時(shí),清理與活化段的真空度在100Pa-1500Pa之間;前氫氣管道輸送的氫氣溫度在400℃-850℃之間,產(chǎn)生輝光的電壓在600V-1100V之間。
所述的滲氮段通電離子化的氨氣分解形成的具有活性的離子對(duì)待處理硅鋼進(jìn)行滲氮處理時(shí),氨氣供應(yīng)管道向滲氮段供應(yīng)的氨氣溫度在900℃-1000℃之間,滲氮段進(jìn)行滲氮處理時(shí)的滲氮溫度在550℃-580℃之間,滲氮段內(nèi)真空度在780Pa-820Pa之間,滲氮段3內(nèi)產(chǎn)生輝光的電壓在600V-1100V之間。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C8-04 .局部表面的處理,例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體,例如粉末、膏劑的





