[發(fā)明專利]一種取向硅鋼滲氮裝置及其滲氮方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010146107.2 | 申請日: | 2020-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN111304583B | 公開(公告)日: | 2022-04-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 裴英豪;朱濤;夏雪蘭;胡柯;施立發(fā);沈新玉;杜軍;張振海 | 申請(專利權(quán))人: | 馬鞍山鋼鐵股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C8/38 | 分類號: | C23C8/38;C23C8/02 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107 | 代理人: | 蔣兵魁 |
| 地址: | 243041 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 取向 硅鋼 裝置 及其 方法 | ||
1.一種取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的取向硅鋼滲氮方法采用的取向硅鋼滲氮裝置包括裝置殼體(1),裝置殼體(1)包括清理與活化段(2)、滲氮段(3)、密封室(4),所述的清理與活化段(2)與前氫氣管道(5)連接,密封室(4)與后氫氣管道(6)連通,滲氮段(3)與氨氣供應(yīng)管道(11)連通,清理與活化段(2)內(nèi)設(shè)置前導電密封輥(7),密封室(4)內(nèi)設(shè)置后導電密封輥(8),所述的滲氮段(3)內(nèi)設(shè)置電極(9),前導電密封輥(7)、后導電密封輥(8)、電極(9)分別與電源(10)連通;
所述的取向硅鋼滲氮方法的滲氮方法的滲氮步驟為:1)前導電密封輥(7)引導待處理硅鋼(13)連續(xù)進入裝置殼體(1),再經(jīng)過滲氮段(3)后通過后導電密封輥(8)引導離開裝置殼體(1);2)前導電密封輥(7)通電使得清理與活化段(2)內(nèi)的氫離子化,對待處理硅鋼(13)表面進行清理和活化;3)清理和活化處理的待處理硅鋼(13)離開清理與活化段(2)進入滲氮段(3),通電離子化的氨氣分解形成的具有活性的離子對待處理硅鋼(13)進行滲氮處理;4)滲氮處理的待處理硅鋼(13)離開滲氮段(3)進入密封室(4),密封室(4)內(nèi)的后導電密封輥(8)通電去除待處理硅鋼(13)表面的氧化層;5)去除表面的氧化層的待處理硅鋼(13)輸出裝置殼體(1),完成滲氮處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的清理與活化段(2)對待處理硅鋼(13)處理時,清理與活化段(2)的真空度在100Pa-1500Pa之間;前氫氣管道(5)輸送的氫氣溫度在400℃-850℃之間,產(chǎn)生輝光的電壓在600V-1100V之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的滲氮段(3)通電離子化的氨氣分解形成的具有活性的離子對待處理硅鋼(13)進行滲氮處理時,氨氣供應(yīng)管道(11)向滲氮段(3)供應(yīng)的氨氣溫度在900℃-1000℃之間,滲氮段(3)進行滲氮處理時的滲氮溫度在550℃-580℃之間,滲氮段(3)內(nèi)真空度在780Pa-820Pa之間,滲氮段(3)內(nèi)產(chǎn)生輝光的電壓在600V-1100V之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的密封室(4)內(nèi)的后導電密封輥(8)通電去除待處理硅鋼(13)表面的氧化層時,密封室(4)的真空度控制在780Pa-820 Pa之間;后氫氣管道(6)輸送的氫氣溫度在580℃-620℃之間;后氫氣管道(6)輸送氫氣的流量為2立方米/每小時,產(chǎn)生輝光的電壓在600V-1000V之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:經(jīng)轉(zhuǎn)爐、氬站、RH真空處理、連鑄成連鑄坯,經(jīng)均熱及粗軋和精軋后,軋制成熱軋板,經(jīng)連續(xù)退火后,緩冷至950℃-900℃之間,淬沸水,再經(jīng)過時效軋制,再經(jīng)過830℃-850℃×4min脫碳退火處理形成待處理硅鋼,然后進入取向硅鋼滲氮裝置進行滲氮處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:經(jīng)過取向硅鋼滲氮裝置滲氮后的帶鋼涂覆MgO后,通N2、H2混合氣加熱到1200℃-1300℃之間,然后再在純H2氣氛中保溫20小時-25小時,然后冷卻到室溫,經(jīng)過拉伸平整涂層處理,獲得取向硅鋼成品。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的清理與活化段(2)對待處理硅鋼(13)處理時,前氫氣管道(5)輸送的氫氣流量在0.1立方米/每小時-10立方米/每小時之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的裝置殼體(1)內(nèi)設(shè)置多個換向輥(12),待處理硅鋼(13)設(shè)置為能夠通過前導電密封輥(7)引導進入裝置殼體(1),再經(jīng)過滲氮段(3)后經(jīng)過后導電密封輥(8)引導離開裝置殼體(1)的結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的取向硅鋼滲氮方法,其特征在于:所述的待處理硅鋼(13)與前導電密封輥(7)接觸時,電極(9)設(shè)置為能夠與離子化的氨、待處理硅鋼(13)、前導電密封輥(7)、電源(10)形成電回路的結(jié)構(gòu);所述的待處理硅鋼(13)與后導電密封輥(8)接觸時,電極(9)設(shè)置為能夠與離子化的氨、待處理硅鋼(13)、后導電密封輥(8)、電源(10)形成電回路的結(jié)構(gòu)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預處理
C23C8-04 .局部表面的處理,例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體,例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體,例如粉末、膏劑的





