[發(fā)明專(zhuān)利]清洗方法及清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010145267.5
• 申請(qǐng)日: 2020-03-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113351566B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-02-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許青波;陳兵錄;張少華
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B08B3/08
• 分類(lèi)號(hào): B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00;C23G3/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專(zhuān)利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 孫海杰

本發(fā)明提供了一種清洗方法及清洗設(shè)備，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，所述清洗方法包括如下步驟：將多個(gè)待清洗件轉(zhuǎn)移至盛放槽內(nèi)，其中，所述盛放槽上設(shè)置有連通其內(nèi)壁和外壁的導(dǎo)流孔；將盛放槽放置到裝有反應(yīng)清洗液的溶液槽內(nèi)，且反應(yīng)清洗液能夠流入到所述盛放槽內(nèi)；將盛放槽從反應(yīng)清洗液內(nèi)取出。在整個(gè)過(guò)程中，多個(gè)待清洗件可以一同被放入到反應(yīng)清洗液中，也可以一同從反應(yīng)清洗液中取出，相比于現(xiàn)有技術(shù)中逐一的放置/取出待清洗件而言，本發(fā)明實(shí)施例提供的清洗方法的使用的時(shí)間更短，清洗的效率更高。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種清洗方法及清洗設(shè)備。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體加工制備領(lǐng)域中，經(jīng)常會(huì)用到一些塊狀金屬或器件，塊狀金屬或器件應(yīng)用時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，表面會(huì)發(fā)生氧化或者附著臟污，影響金屬或器件的正常使用。

現(xiàn)有技術(shù)中，為了避免酸性清洗液或者堿性清洗液飛濺，需要手動(dòng)將塊狀金屬或器件逐一放入到酸性清洗液或者堿性清洗液中清洗清洗，清洗掉其表面的氧化膜或臟污才能繼續(xù)使用。手動(dòng)清洗塊狀金屬或器件時(shí)，塊狀金屬或器件轉(zhuǎn)移費(fèi)時(shí)，清洗速度慢，導(dǎo)致清洗效率低，耗費(fèi)人工，產(chǎn)能低的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種清洗方法及清洗設(shè)備，以緩解了現(xiàn)有的人工清洗過(guò)程中待清洗件逐一轉(zhuǎn)移效率低的技術(shù)問(wèn)題。

第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種清洗方法，所述清洗方法包括如下步驟：

將多個(gè)待清洗件轉(zhuǎn)移至盛放槽內(nèi)，其中，所述盛放槽上設(shè)置有連通其內(nèi)壁和外壁的導(dǎo)流孔；

將盛放槽放置到裝有反應(yīng)清洗液的溶液槽內(nèi)，且反應(yīng)清洗液能夠流入到所述盛放槽內(nèi)；

將盛放槽從反應(yīng)清洗液內(nèi)取出。

進(jìn)一步的，所述清洗方法包括在所述將盛放槽放置到反應(yīng)清洗液內(nèi)，且反應(yīng)清洗液能夠流入到所述盛放槽內(nèi)之后進(jìn)行的步驟：

在所述反應(yīng)清洗液內(nèi)，對(duì)所述盛放槽內(nèi)的待清洗件進(jìn)行超聲處理。

進(jìn)一步的，所述清洗方法包括在所述將盛放槽放置到反應(yīng)清洗液內(nèi)，且反應(yīng)清洗液能夠流入到所述盛放槽內(nèi)之后進(jìn)行的步驟：

在反應(yīng)清洗液中晃動(dòng)盛放槽。

第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種清洗設(shè)備，所述清洗設(shè)備包括盛放槽，所述盛放槽用于盛放待清洗件，所述盛放槽上設(shè)置有連通其內(nèi)壁和外壁的導(dǎo)流孔；

所述清洗設(shè)備包括溶液槽，所述溶液槽用于盛放反應(yīng)清洗液；

所述清洗設(shè)備包括第一機(jī)械臂，所述第一機(jī)械臂用于夾持并轉(zhuǎn)移所述盛放槽，以使所述盛放槽能夠被放入到所述溶液槽內(nèi)，或者從所述溶液槽內(nèi)取出。

進(jìn)一步的，所述溶液槽上設(shè)置有超聲波發(fā)生器，所述超聲波發(fā)生器用于使所述溶液槽內(nèi)的反應(yīng)清洗液振動(dòng)。

進(jìn)一步的，所述清洗設(shè)備包括配液裝置，所述配液裝置包括多個(gè)能夠向所述溶液槽內(nèi)定量輸出液體的液體輸出機(jī)構(gòu)。

進(jìn)一步的，所述清洗設(shè)備包括第二機(jī)械臂，所述第二機(jī)械臂用于抓取用于盛放待清洗件的容器；

所述第二機(jī)械臂能夠?qū)⑺鋈萜鲀?nèi)的待清洗件倒入到所述盛放槽內(nèi)。

進(jìn)一步的，所述清洗設(shè)備包括支架和漏斗結(jié)構(gòu)，所述支架用于支撐所述漏斗結(jié)構(gòu)；

所述第二機(jī)械臂能夠在傾倒完所述待清洗件后將所述容器移動(dòng)到所述漏斗結(jié)構(gòu)的正下方，所述漏斗結(jié)構(gòu)用于將清洗后的待清洗件導(dǎo)入到所述容器內(nèi)。

進(jìn)一步的，所述清洗設(shè)備包括漂洗裝置，所述漂洗裝置用于對(duì)待清洗件進(jìn)行漂洗；

所述清洗設(shè)備包括烘干裝置，所述烘干裝置用于對(duì)待清洗件進(jìn)行烘干。