[發(fā)明專利]清洗方法及清洗設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010145267.5
• 申請日: 2020-03-04
• 公開（公告）號(hào): CN113351566B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許青波;陳兵錄;張少華
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/08
• 分類號(hào): B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;F26B21/00;C23G3/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 孫海杰

1.一種清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗設(shè)備包括盛放槽(100)，所述盛放槽(100)用于盛放待清洗件，所述盛放槽(100)上設(shè)置有連通其內(nèi)壁和外壁的導(dǎo)流孔(110)；

所述清洗設(shè)備包括溶液槽(200)，所述溶液槽(200)用于盛放反應(yīng)清洗液；

所述清洗設(shè)備包括第一機(jī)械臂(300)，所述第一機(jī)械臂(300)用于夾持并轉(zhuǎn)移所述盛放槽(100)，以使所述盛放槽(100)能夠被放入到所述溶液槽(200)內(nèi)，或者從所述溶液槽(200)內(nèi)取出；

所述清洗設(shè)備包括第二機(jī)械臂(500)，所述第二機(jī)械臂(500)用于抓取用于盛放待清洗件的容器(400)；

所述第二機(jī)械臂(500)能夠?qū)⑺鋈萜?400)內(nèi)的待清洗件倒入到所述盛放槽(100)內(nèi)；

所述溶液槽(200)的底部設(shè)置有安裝槽(810)，所述安裝槽(810)的開口處設(shè)置有止擋邊沿；

所述溶液槽(200)內(nèi)設(shè)置有轉(zhuǎn)盤(820)，所述轉(zhuǎn)盤(820)和所述盛放槽(100)之間設(shè)置有固定結(jié)構(gòu)，所述固定結(jié)構(gòu)用于將二者固定連接；

所述轉(zhuǎn)盤(820)底面上設(shè)置有軸桿(830)，所述軸桿(830)的末端的外壁上設(shè)置有沿其徑向方向延伸的止擋部(831)，且所述止擋部(831)位于所述安裝槽(810)內(nèi)；所述安裝槽(810)的底面與所述止擋邊沿之間的具有大于所述止擋部(831)的厚度，所述轉(zhuǎn)盤(820)位于所述安裝槽(810)的上方，以使所述轉(zhuǎn)盤(820)能夠沿所述安裝槽(810)的深度方向運(yùn)動(dòng)；所述軸桿(830)上套接有彈簧(840)，所述彈簧(840)的一端與所述止擋邊沿抵接，另一端與所述止擋部(831)抵接，所述彈簧(840)用于帶動(dòng)所述止擋部(831)遠(yuǎn)離所述止擋邊沿；

所述轉(zhuǎn)盤(820)的邊沿處內(nèi)嵌有第一磁鐵(850)；所述溶液槽(200)的下方設(shè)置有磁力轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述磁力轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電機(jī)(860)，以及連接在所述電機(jī)(860)轉(zhuǎn)軸上的輪體(870)，所述輪體(870)與所述轉(zhuǎn)盤(820)平行，且所述輪體(870)的邊沿上設(shè)置有第二磁鐵(871)，且所述第一磁鐵(850)與所述第二磁鐵(871)能夠相互吸引，以使所述電機(jī)(860)通過所述輪體(870)帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)盤(820)轉(zhuǎn)動(dòng)；

所述轉(zhuǎn)盤(820)的底面上設(shè)置有多個(gè)球形凸起(881)，多個(gè)所述球形凸起(881)沿所述轉(zhuǎn)盤(820)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向環(huán)繞且間隔設(shè)置；

所述溶液槽(200)上設(shè)置有多個(gè)凹槽(882)，所述凹槽(882)位于所述球形凸起(881)的下方，多個(gè)凹槽(882)間隔的設(shè)置在所述球形凸起(881)的運(yùn)動(dòng)路徑上，且與所述球形凸起(881)一一對(duì)應(yīng)；以使所述轉(zhuǎn)盤(820)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，所述球形凸起(881)經(jīng)過所述凹槽(882)后，所述轉(zhuǎn)盤(820)在軸向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述溶液槽(200)上設(shè)置有超聲波發(fā)生器，所述超聲波發(fā)生器用于使所述溶液槽(200)內(nèi)的反應(yīng)清洗液振動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗設(shè)備包括配液裝置，所述配液裝置包括多個(gè)能夠向所述溶液槽(200)內(nèi)定量輸出液體的液體輸出機(jī)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗設(shè)備包括支架和漏斗結(jié)構(gòu)(600)，所述支架用于支撐所述漏斗結(jié)構(gòu)(600)；

所述第二機(jī)械臂(500)能夠在傾倒完所述待清洗件后將所述容器(400)移動(dòng)到所述漏斗結(jié)構(gòu)(600)的正下方，所述漏斗結(jié)構(gòu)(600)用于將清洗后的待清洗件導(dǎo)入到所述容器(400)內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗設(shè)備包括漂洗裝置(710)，所述漂洗裝置(710)用于對(duì)待清洗件進(jìn)行漂洗；

所述清洗設(shè)備包括烘干裝置(720)，所述烘干裝置(720)用于對(duì)待清洗件進(jìn)行烘干。