[發明專利]發射機性能對比方法、裝置及設備有效
| 申請號: | 202010138961.4 | 申請日: | 2020-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN111525965B | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發明(設計)人: | 羅興華 | 申請(專利權)人: | 普聯技術有限公司 |
| 主分類號: | H04B17/11 | 分類號: | H04B17/11;H04B17/15 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 黃詩彬;郝傳鑫 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區深南路科技*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發射機 性能 對比 方法 裝置 設備 | ||
本發明公開了一種發射機性能對比方法、裝置及設備,所述方法包括:獲取發射機在測試工況下測得的實際功率及與所述實際功率對應的實際EVM;對所述實際功率進行修正,得到所述發射機的修正功率,并得到所述修正功率的功率修正值;所述功率修正值為所述修正功率與所述實際功率的差值;根據預先得到的EVM補償量與功率修正值的關系,得到所述發射機的與所述功率修正值對應的EVM補償量;根據所述EVM補償量及對應的所述實際EVM,得到所述發射機的修正EVM。本發明通過對功率和EVM進行修正,從而能夠提高EVM的對比結果的準確性,進而最終確保發射機的EVM指標符合設計要求。
技術領域
本發明涉及通信技術領域,尤其涉及一種發射機性能對比方法、裝置及設備。
背景技術
EVM(Error Vector Magnitude,誤差向量幅度)是在一個給定時刻理想無誤差基準信號與實際發射信號的向量差,能全面衡量調制信號的幅度誤差和相位誤差。EVM是評判發射機輸出調制信號質量的關鍵指標,其作為發射機的重要的設計依據。同等條件下,EVM越小表示發射機性能越好。由于發射機的非線性(主要是發射機的功率放大器PA非線性)特性,EVM大小與輸出功率大小成正相關關系,即功率越大EVM越大,功率越小EVM越小。因此在對比EVM時,需約定輸出功率相同。
許多實際應用情況下,由于發射機的控制電路限制,導致發射機輸出功率精度有限,比如wifi芯片輸出功率最小調節步進一般為0.5dB(即最小調整單位為0.5dB)。而由于功率控制精度有限,會使得發射機的實際輸出的功率不能準確地調到目標功率,從而使得實際得到的EVM也達不到預期值,所以最終得到的EVM出現偏差,這樣,用出現偏差的EVM來作為發射機的設計依據時,會使得最終設計出來的發射機的EVM指標不符合要求。
此外,在進行EVM對比時,由于無法把兩個發射機的功率調整到相同來進行EVM測試。假如設置目標功率為17dBm,第一個發射機實際輸出功率為17.49dBm(此功率為正常情況,符合精度0.5dB以內。設此時EVM為EVM1,為-29.5dB),而第二個發射機輸出功率為16.7dBm(設此時EVM為EVM2,為-29.9dB)。為了比較這兩個發射電路的性能,目前的做法是忽略兩個輸出功率之間的差異,直接比較EVM1和EVM2的大小,由于EVM2小于EVM1,判斷第二個發射機的輸出EVM優于第一個發射機。由此可見,實際上由于測試條件的限制,兩個發射機輸出功率是不相同的,他們之間的功率差異會影響EVM的對比結果的準確性。而對EVM的對比結果的評判不準確,會影響到發射機的發射電路的設計(例如會造成發射機的匹配電路設計到錯誤的阻抗),使得發射機的EVM指標不符合要求。
發明內容
本發明實施例提供一種發射機性能比對方法、裝置及設備,通過對功率和EVM進行修正,能夠有效提高得到的EVM的準確性,并能夠提高EVM的對比結果的準確性,進而最終確保發射機的EVM指標符合設計要求。
本發明一實施例提供一種發射機的功率和EVM的修正方法,其包括:
獲取發射機在測試工況下測得的實際功率及與所述實際功率對應的實際EVM;
對所述實際功率進行修正,得到所述發射機的修正功率,并得到所述修正功率的功率修正值;所述功率修正值為所述修正功率與所述實際功率的差值;
根據預先得到的EVM補償量與功率修正值的關系,得到所述發射機的與所述功率修正值對應的EVM補償量;
根據所述EVM補償量及對應的所述實際EVM,得到所述發射機的修正EVM。
作為上述方案的改進,所述EVM補償量EVMe與功率修正值Pe的關系為:
EVMe=x*Pe;
其中,x為EVM隨功率變化的曲線在修正功率Pc點的切線的斜率;
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