[發明專利]發射機性能對比方法、裝置及設備有效
| 申請號: | 202010138961.4 | 申請日: | 2020-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN111525965B | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發明(設計)人: | 羅興華 | 申請(專利權)人: | 普聯技術有限公司 |
| 主分類號: | H04B17/11 | 分類號: | H04B17/11;H04B17/15 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 黃詩彬;郝傳鑫 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區深南路科技*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發射機 性能 對比 方法 裝置 設備 | ||
1.一種發射機性能對比方法,其特征在于,包括:
獲取發射機在測試工況下測得的實際功率及與所述實際功率對應的實際EVM;
對所述實際功率進行修正,得到所述發射機的修正功率,并得到功率修正值;所述功率修正值為所述修正功率與所述實際功率的差值;
根據預先得到的EVM補償量與功率修正值的關系,得到所述發射機的與所述功率修正值對應的EVM補償量;
根據所述EVM補償量及對應的所述實際EVM,得到所述發射機的修正EVM;其中,需要經過修正以用于對比的實際功率和實際EVM的數量均為至少兩個;
根據得到的修正功率和至少兩個與所述至少兩個實際EVM相對應的修正EVM,得到發射機的性能對比結果;其中,對至少兩個所述實際功率進行修正而得到的修正功率相同;所述至少兩個實際功率及所述至少兩個實際EVM與至少兩個發射機相對應,或與同一發射機的至少兩個不同測試工況下相對應。
2.如權利要求1所述的發射機性能對比方法,其特征在于,所述EVM補償量EVMe與功率修正值Pe的關系為:
EVMe=x*Pe;
其中,x為EVM隨功率變化的曲線在修正功率Pc點的切線的斜率;
或,x=(EVMj-EVMk)/(Pj-Pk);其中,EVMj與EVMk為在所述修正功率Pc附近選定的兩個功率Pj和Pk下測試取得的對應的EVM。
3.如權利要求1所述的發射機性能對比方法,其特征在于,所述根據得到的修正功率和至少兩個與所述兩個實際EVM相對應的修正EVM,得到發射機的性能對比結果,包括:
以所述修正功率作為目標比較功率,對所述至少兩個修正EVM進行比較,并輸出比較結果;
或,根據得到的所述修正功率及所述至少兩個修正EVM繪制loadpull圖并輸出顯示。
4.如權利要求1所述的發射機性能對比方法,其特征在于,所述修正功率為所述兩個實際功率的平均值,或為預設的目標功率。
5.一種發射機性能對比裝置,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取發射機在測試工況下測得的實際功率及與所述實際功率對應的實際EVM;
第一修正模塊,用于對所述實際功率進行修正,得到所述發射機的修正功率,并得到功率修正值;所述功率修正值為所述修正功率與所述實際功率的差值;
計算模塊,用于根據預先得到的EVM補償量與功率修正值的關系,得到所述發射機的與所述功率修正值對應的EVM補償量;
第二修正模塊,用于根據所述EVM補償量及對應的所述實際EVM,得到所述發射機的修正EVM;其中,需要經過修正以用于對比的實際功率和實際EVM的數量均為至少兩個;
對比模塊,用于根據得到的修正功率和至少兩個與所述至少兩個實際EVM相對應的修正EVM,得到發射機的性能對比結果;其中,對至少兩個所述實際功率進行修正而得到的修正功率相同;所述至少兩個實際功率及所述至少兩個實際EVM與至少兩個發射機相對應,或與同一發射機的至少兩個不同測試工況下相對應。
6.一種發射機性能對比設備,其特征在于,包括處理器、存儲器以及存儲在所述存儲器中且被配置為由所述處理器執行的計算機程序,所述處理器執行所述計算機程序時實現如權利要求1至4中任意一項所述的發射機性能對比方法。
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