[發明專利]3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝在審
| 申請號: | 202010136177.X | 申請日: | 2020-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN111432566A | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發明(設計)人: | 曹兵;雷仁慶;劉文華;劉建波;王太平;張煒;羅昭瓚 | 申請(專利權)人: | 博羅康佳精密科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/06 | 分類號: | H05K3/06 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 鄭裕涵 |
| 地址: | 516100 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | oz 單面 厚銅鋁基板 精密 線路 制備 工藝 | ||
1.一種3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,包括:
S1:預檢:對來料的基板進行板面刮傷及板邊批鋒檢查;
S2:磨板:按照速度5-6m/min,磨痕10-14mm對所述基板進行磨板處理;
S3:涂布:作用于所述基板的涂布濕膜厚度13-15μm之間,涂布油墨用網砂處理,再將所述基板放入隧道爐烤干,烘干后的所述基板放置于板車;
S4:曝光:
S41:曝光尺做到5-6格殘膠,間隔測量一次曝光能量,控制曝光機均勻性及抽真空;
S42:清洗曝光菲林;
S43:將曝光后的所述基板靜放;
S5:顯影:
S51:顯影速度:2.5-3.0m/min,顯影壓力:2.5kg/㎡;
S52:顯影后由QC全檢線路,再進行烤爐烘烤處理;
S6:蝕刻:
S61:蝕刻速度:1.0-1.5m/min;
S62:蝕刻壓力:2.5-3.0kg/㎡;
S63:蝕刻藥水濃度:Cu2+:134g/l,CI-:187g/l;
S64:藥水添加比重:1.183-1.193;
S65:微蝕處理;
S7:退膜;
S8:線路檢查;
S9:無塵室溫度及濕度管控。
2.根據權利要求1所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述預檢時,按10%進行抽檢,不良率小于等于1%內。
3.根據權利要求1所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述網砂規格為43T。
4.根據權利要求1所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述曝光時,每2小時測量一次曝光能量,曝光機的均勻性控制在80%以上,抽真空控制在-700mm·Hg以上。
5.根據權利要求1所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,將曝光后的所述基板靜放15min。
6.根據權利要求1所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述顯影時,所述烤爐為文字高溫烤爐,在120℃的環境下烘烤15min。
7.根據權利要求1-6任一所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述微蝕處理為:微蝕速度2.0m/min,藥水濃度第一次開缸時,按照缸體標準容積的15%加入微蝕原液,再加入85%體積的水,并調整微蝕量2-3微米。
8.根據權利要求1-6任一所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述退膜的速度為:6-7m/min,溫度55±5℃,濃度20%-30%。
9.根據權利要求1-6任一所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述線路檢查包括:S81:蝕刻后線寬線距測量,控制在要求的±20%內,單邊毛邊控制在1.5mil內,側蝕量控制在3mil內;S82:蝕刻首件做2PNL進行AOI檢測,AOI一次良品率控制在90%以上。
10.根據權利要求1-6任一所述的3OZ單面厚銅鋁基板精密線路的制備工藝,其特征在于,所述無塵室溫度為:20±2,濕度為:55%±5。
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