[發(fā)明專利]一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010133589.8 | 申請日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN111354637B | 公開(公告)日: | 2023-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚騫;張忠文;謝毅 | 申請(專利權(quán))人: | 通威太陽能(眉山)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/311 | 分類號: | H01L21/311;H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 彭星 |
| 地址: | 620000 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氫氟酸 循環(huán) 利用 石墨 方法 | ||
1.一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:將使用過的舊氫氟酸收集并儲存在廢酸儲存池(10)中;
步驟2:將廢酸儲存池(10)中的舊氫氟酸抽入自配存放池(2)中;
步驟3:測量自配存放池(2)中的舊氫氟酸濃度;
步驟4:根據(jù)測量自配存放池(2)中舊氫氟酸的濃度,向自配存放池(2)中加入新氫氟酸或者清水,直到自配存放池(2)中舊氫氟酸的濃度達到要求為止;
步驟5:將自配存放池(2)中的舊氫氟酸加入石墨舟清洗槽(8)中,并將帶返工片的花籃放入石墨舟清洗槽(8)中浸泡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于:所述石墨舟清洗槽(8)、廢酸儲存池(10)、自配存放池(2)依次通過導液管(1)連通,所述自配存放池(2)與石墨舟清洗槽(8)間通過連通管(7)連通,所述石墨舟清洗槽(8)與廢酸儲存池(10)間的導液管(1)上、廢酸儲存池(10)與自配存放池(2)間的導液管(1)上、自配存放池(2)與石墨舟清洗槽(8)間的連通管(7)上均安裝有水閥(9),所述石墨舟清洗槽(8)的下部還安裝有流出管(11),所述流出管(11)上安裝有水閥(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于:所述新氫氟酸盛裝在新酸存放池(3)中,所述新酸存放池(3)與自配存放池(2)通過加酸管(4)連通,所述加酸管(4)上安裝有水閥(9)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于:所述清水盛裝在水池(5)中,所述水池(5)與自配存放池(2)間通過加水管(6)連通,所述加水管(6)上安裝有水閥(9)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2-4任一項所述的一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于:所述自配存放池(2)的內(nèi)壁上安裝有可封閉連通管(7)的過濾罩(12),所述過濾罩(12)上開有多個過濾孔(121)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于:所述石墨舟清洗槽(8)中舊氫氟酸的濃度為15%。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種氫氟酸循環(huán)利用洗石墨舟的方法,其特征在于:所述返工片在石墨舟清洗槽(8)中浸泡1200秒。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





