[發明專利]掩膜板張網方法、掩膜板張網裝置及掩膜板有效
| 申請號: | 202010129968.X | 申請日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN111218645B | 公開(公告)日: | 2022-02-11 |
| 發明(設計)人: | 余強根;卓林海;王亞 | 申請(專利權)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 065500 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板張網 方法 裝置 掩膜板 | ||
1.一種掩膜板張網方法,其特征在于,所述掩膜板包括掩膜板框架以及多個掩膜單元,所述掩膜板框架上設有第一對位點,所述掩膜板框架中所述第一對位點的數量為多個,每個所述掩膜單元上設有第二對位點,所述掩膜板張網方法包括:
在張網平臺上預設坐標系;
將所述掩膜板框架置于所述張網平臺上,獲取所述第一對位點在所述坐標系中的第一實際位置;
對所述掩膜板框架進行框架位置校正,獲取所述第一對位點在所述坐標系中的校正位置;
根據所述第一對位點的校正位置和第一實際位置得到補償參數;
將所述掩膜單元與所述掩膜板框架連接,獲取所述第二對位點在所述坐標系中的第二實際位置;
根據所述補償參數對所述第二對位點進行位置補償,得到所述第二對位點的補償后位置;以及
根據所述第二對位點的補償后位置和所述第一對位點的校正位置,對所述掩膜單元進行掩膜單元位置校正;
所述對所述掩膜板框架進行框架位置校正,獲取所述第一對位點在所述坐標系中的校正位置包括:
預設所述第一對位點在所述坐標系中的標準位置;
預設模擬校正庫,所述模擬校正庫中預存多組模擬校正參數;
根據各組所述模擬校正參數對所述掩膜板框架進行模擬校正,得到多組模擬點陣,每組所述模擬點陣包括所述掩膜板框架中的各所述第一對位點的模擬校正位置;
獲得各組所述模擬點陣分別對應的總偏差;
將所述總偏差最小的所述模擬點陣所包括的各所述第一對位點的模擬校正位置作為各所述第一對位點的所述校正位置。
2.根據權利要求1所述的掩膜板張網方法,其特征在于,所述掩膜板框架呈矩形,所述掩膜板框架中所述第一對位點的數量為四個并分別對應設置于所述掩膜板框架的四角,所述模擬校正參數包括角度模擬校正參數以及平移模擬校正參數。
3.根據權利要求2所述的掩膜板張網方法,其特征在于,所述角度模擬校正參數配置為將所述第一對位點以四個所述第一對位點的對角線交點為旋轉中心進行順時針旋轉變換的旋轉角度;所述平移模擬校正參數配置為將所述第一對位點進行平移變換的平移向量。
4.根據權利要求2所述的掩膜板張網方法,其特征在于,所述模擬校正庫中預存的多組所述模擬校正參數的所述角度模擬校正參數的范圍為-0.1°至0.1°。
5.根據權利要求2所述的掩膜板張網方法,其特征在于,所述坐標系為平面直角坐標系,所述坐標系包括相互垂直的第一坐標軸和第二坐標軸,所述補償參數包括角度補償參數、第一平移補償參數以及第二平移補償參數。
6.根據權利要求5所述的掩膜板張網方法,其特征在于,所述角度補償參數配置為與所述總偏差最小的所述模擬點陣所對應的所述模擬校正參數的所述角度模擬校正參數相同;所述第一平移補償參數配置為將所述第一對位點沿所述第一坐標軸平移補償的數值;所述第二平移補償參數配置為將所述第一對位點沿所述第二坐標軸平移補償的數值。
7.根據權利要求5所述的掩膜板張網方法,其特征在于,所述根據所述第一對位點的校正位置和第一實際位置得到補償參數包括根據以下方程組得到所述第一平移補償參數以及所述第二平移補償參數:
M=x·cosθ-y·sinθ+offset x;
N=y·cosθ+x·sinθ+offset y;
其中,x為所述第一對位點的第一實際位置沿所述第一坐標軸的坐標值;
y為所述第一對位點的第一實際位置沿所述第二坐標軸的坐標值;
M為所述第一對位點的校正位置沿所述第一坐標軸的坐標值;
N為所述第一對位點的校正位置沿所述第二坐標軸的坐標值;
offset x為所述第一平移補償參數;
offset y為所述第二平移補償參數;
θ為所述角度補償參數。
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