[發明專利]一種高功率激光應用的散熱基座在審
| 申請號： | 202010129788.1 | 申請日： | 2020-02-28 |
| 公開（公告）號： | CN113328335A | 公開（公告）日： | 2021-08-31 |
| 發明（設計）人： | 汪子航;陳曦;柯航;項樺;鄧鵬;于光龍 | 申請（專利權）人： | 福州高意光學有限公司 |
| 主分類號： | H01S5/024 | 分類號： | H01S5/024;H01S5/02 |
| 代理公司： | 福州君誠知識產權代理有限公司 35211 | 代理人： | 戴雨君 |
| 地址： | 350000 福建省福州*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 功率 激光 應用 散熱 基座 | ||
【權利要求書】：
1.一種高功率激光應用的散熱基座，其包括：基底，在基底上端面和下端面依序設置的緊密接觸層和電極層，其中，位于基底上端面的電極層上還設有釬焊層，其特征在于：所述的基底為SiC成型。
2.根據權利要求1所述的一種高功率激光應用的散熱基座，其特征在于：所述的緊密接觸層為兩層且相互疊置形成。
3.根據權利要求1所述的一種高功率激光應用的散熱基座，其特征在于：所述的電極層為三層且相互疊置形成。
4.根據權利要求1所述的一種高功率激光應用的散熱基座，其特征在于：所述的釬焊層為兩層且相互疊置形成。
5.根據權利要求1所述的一種高功率激光應用的散熱基座，其特征在于：所述的電極層和緊密接觸層之間還至少設有一層過渡金屬層。
6.根據權利要求5所述的一種高功率激光應用的散熱基座，其特征在于：所述的過渡金屬層為貴金屬疊置形成。
7.根據權利要求1所述的一種高功率激光應用的散熱基座，其特征在于：所述的SiC為4H或6H碳化硅。
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