[發明專利]光學系統、取像模組及電子設備在審
| 申請號: | 202010129605.6 | 申請日: | 2020-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN111221106A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 陳雪微;劉彬彬;李明;鄒海榮 | 申請(專利權)人: | 南昌歐菲精密光學制品有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
| 地址: | 330200 江西省南昌市高*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學系統 模組 電子設備 | ||
本發明涉及一種光學系統、取像模組及電子設備。光學系統由物側到像側依次包括具有正屈折力的第一透鏡,第一透鏡的物側面于近軸處為凸面。具有屈折力的第二透鏡,第二透鏡的像側面為凸面。具有負屈折力的第三透鏡,第三透鏡的像側面于近軸處為凹面。具有正屈折力的第四透鏡。具有負屈折力的第五透鏡,第五透鏡的像側面于圓周處為凸面,第五透鏡的物側面和像側面中的至少一個存在反曲點。且光學系統滿足以下條件式:0.4<ImgH/TTL<0.8;其中,ImgH為光學系統成像面上有效像素區域對角線長度的一半,TTL為第一透鏡的物側面至光學系統的成像面于光軸上的距離。上述光學系統,能夠同時兼顧小型化設計以及成像質量的提高。
技術領域
本發明涉及光學成像領域,特別是涉及一種光學系統、取像模組和電子設備。
背景技術
近年來,隨著智能電子設備的快速發展,人們對電子設備的要求越來越高。對于具有取像功能的電子設備,既要求電子設備中光學系統的成像效果好,同時也要求光學系統的尺寸較小,以滿足電子設備的小型化設計。但是,目前的電子設備,在進行小型化設計的同時,分辨率難以提升,即難以同時兼顧小型化設計以及成像質量的提高。
發明內容
基于此,有必要針對目前的電子設備難以同時兼顧小型化設計以及成像質量的提高的問題,提供一種光學系統、取像模組和電子設備。
一種光學系統,由物側到像側依次包括:
具有正屈折力的第一透鏡,所述第一透鏡的物側面于近軸處為凸面;
具有屈折力的第二透鏡,所述第二透鏡的像側面為凸面;
具有負屈折力的第三透鏡,所述第三透鏡的像側面于近軸處為凹面;
具有正屈折力的第四透鏡;
具有負屈折力的第五透鏡,所述第五透鏡的像側面于圓周處為凸面,所述第五透鏡的物側面和像側面中的至少一個存在反曲點;
且所述光學系統滿足以下條件式:
0.4<ImgH/TTL<0.8;
其中,ImgH為所述光學系統成像面上有效像素區域對角線長度的一半,TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統的成像面于光軸上的距離。
上述光學系統,所述第一透鏡具有正屈折力,有助于縮短所述光學系統的總長,而所述第一透鏡的物側面為凸面,可進一步加強所述第一透鏡的正屈折力,使所述光學系統于光軸方向的尺寸變得更短,進一步滿足小型化設計的需求。另外,所述第五透鏡的物側面和像側面中的至少一個存在反曲點,可以修正離軸視場的像差,進一步提高成像質量。滿足上述透鏡的屈折力和面型設計時,當光學系統滿足0.4<ImgH/TTL<0.8時,可以在匹配高像素感光芯片時能夠獲得更好的成像質量,同時能夠實現光學系統的小型化設計。由此,通過合理搭配ImgH與TTL的比值,光學系統能夠同時兼顧小型化設計以及成像質量的提高。
在其中一個實施例中,所述光學系統滿足以下條件式:
1<|f1/f5|<2.3;
其中,f1為所述第一透鏡的有效焦距,f5為所述第五透鏡的有效焦距。所述第一透鏡為所述光學系統提供正屈折力,所述第五透鏡為所述光學系統提供負屈折力,滿足上述條件式時,所述光學系統的正負屈折力能夠得到合理分配,以有效平衡所述光學系統的球差,實現相互補償,進而降低所述光學系統的敏感度,提高所述光學系統的成像質量。
在其中一個實施例中,所述光學系統滿足以下條件式:
0.2<R10/f<0.6;
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