[發(fā)明專利]光學(xué)系統(tǒng)、取像模組及電子設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010129605.6
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN111221106A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳雪微;劉彬彬;李明;鄒海榮
• 申請（專利權(quán)）人: 南昌歐菲精密光學(xué)制品有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 何平

1.一種光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，由物側(cè)到像側(cè)依次包括：

具有正屈折力的第一透鏡，所述第一透鏡的物側(cè)面于近軸處為凸面；

具有屈折力的第二透鏡，所述第二透鏡的像側(cè)面為凸面；

具有負(fù)屈折力的第三透鏡，所述第三透鏡的像側(cè)面于近軸處為凹面；

具有正屈折力的第四透鏡；

具有負(fù)屈折力的第五透鏡，所述第五透鏡的像側(cè)面于圓周處為凸面，所述第五透鏡的物側(cè)面和像側(cè)面中的至少一個存在反曲點(diǎn)；

且所述光學(xué)系統(tǒng)滿足以下條件式：

0.4＜ImgH/TTL＜0.8；

其中，ImgH為所述光學(xué)系統(tǒng)成像面上有效像素區(qū)域?qū)蔷€長度的一半，TTL為所述第一透鏡的物側(cè)面至所述光學(xué)系統(tǒng)的成像面于光軸上的距離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

1＜|f1/f5|＜2.3；

其中，f1為所述第一透鏡的有效焦距，f5為所述第五透鏡的有效焦距。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

0.2＜R10/f＜0.6；

其中，R10為所述第五透鏡的像側(cè)面于光軸處的曲率半徑，f為所述光學(xué)系統(tǒng)的總有效焦距。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

0.01＜|f4/R7|＜0.7；

其中，f4為所述第四透鏡的有效焦距，R7為所述第四透鏡的物側(cè)面于光軸處的曲率半徑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

0.6＜(R5+R6)(R5-R6)＜1.2；

其中，R5為所述第三透鏡的物側(cè)面于光軸處的曲率半徑，R6為所述第三透鏡的像側(cè)面于光軸處的曲率半徑。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

(CT3+CT4)/TTL＜0.3；

其中，CT3為所述第三透鏡于光軸上的厚度，CT4為所述第四透鏡于光軸上的厚度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

CT1/ImgH＜0.18；

其中，CT1為所述第一透鏡于光軸上的厚度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

35°＜FOV/2＜50°；

其中，F(xiàn)OV為所述光學(xué)系統(tǒng)的最大視場角。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：

7＜f/CT5＜12；

其中，f為所述光學(xué)系統(tǒng)的總有效焦距，CT5為所述第五透鏡于光軸上的厚度。

10.一種取像模組，其特征在于，包括感光元件以及權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，所述感光元件設(shè)置在所述光學(xué)系統(tǒng)的像側(cè)。

11.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括殼體以及權(quán)利要求10所述的取像模組，所述取像模組安裝在所述殼體上。