[發明專利]磁性裝置在審
| 申請號: | 202010125817.7 | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN112490263A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發明(設計)人: | 及川忠昭;李永珉;吉野健一;北川英二;澤田和也;磯田大河 | 申請(專利權)人: | 鎧俠股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/22 | 分類號: | H01L27/22;H01L43/08;H01L43/10;H01L43/12 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁性 裝置 | ||
1.一種磁性裝置,具備積層體,
所述積層體包含:
第1強磁性體;
第2強磁性體;
所述第1強磁性體與所述第2強磁性體之間的第1非磁性體;以及
與所述第1非磁性體之間夾著所述第1強磁性體的第2非磁性體;且
所述第1非磁性體及所述第2非磁性體含有氧化鎂(MgO),
所述第1強磁性體與所述第1非磁性體的界面比所述第1強磁性體與所述第2非磁性體的界面含有更多的硼(B)。
2.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體的膜厚與飽和磁化的積小于2.5e-4emu/cm2。
3.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述積層體還包含與所述第1強磁性體之間夾著所述第2非磁性體的第3非磁性體,
所述第3非磁性體含有選自銥(Ir)、釕(Ru)、及銠(Rh)中的至少1種元素。
4.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體包含第1部分、及所述第1部分與所述第2非磁性體之間的第2部分,
所述第1強磁性體的所述第1部分比所述第1強磁性體的所述第2部分含有更多的硼(B)。
5.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體內所含的硼(B)的量從所述第1非磁性體朝向所述第2非磁性體單調遞減。
6.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1非磁性體比所述第2非磁性體含有更多的硼(B)。
7.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體與所述第1非磁性體及所述第2非磁性體相接。
8.根據權利要求7所述的磁性裝置,其中
所述第2強磁性體與所述第1非磁性體相接。
9.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體及所述第2強磁性體含有選自鐵(Fe)、鈷(Co)、及鎳(Ni)中的至少1種元素。
10.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體
根據從所述第1強磁性體向所述第2強磁性體的第1電流而成為第1電阻值,
根據從所述第2強磁性體向所述第1強磁性體的第2電流而成為第2電阻值。
11.根據權利要求10所述的磁性裝置,其中
所述第1電阻值小于所述第2電阻值。
12.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述第1強磁性體設置在所述第2強磁性體的上方。
13.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述磁性裝置具備存儲單元,
所述存儲單元包含:
磁阻效應元件,包含所述積層體;以及
切換元件,與所述積層體串聯地連接。
14.根據權利要求13所述的磁性裝置,其中
所述切換元件是二端子型切換元件。
15.根據權利要求1所述的磁性裝置,其中
所述積層體還包含第3強磁性體、以及
所述第2強磁性體與所述第3強磁性體之間的第4非磁性體,
所述第2強磁性體與所述第3強磁性體具有朝向互不相同的方向的磁化。
16.根據權利要求15所述的磁性裝置,其中
所述第4非磁性體含有選自釕(Ru)、鋨(Os)、銥(Ir)、釩(V)、及鉻(Cr)中的至少1種元素。
17.根據權利要求15所述的磁性裝置,其中
所述第3強磁性體設置在所述第2強磁性體的下方。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





