[發明專利]壓電泵以及液體噴出裝置有效
| 申請號: | 202010125504.1 | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN112109446B | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發明(設計)人: | 后藤大輝;原千弘 | 申請(專利權)人: | 東芝泰格有限公司 |
| 主分類號: | B41J2/045 | 分類號: | B41J2/045 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 田喜慶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓電 以及 液體 噴出 裝置 | ||
本發明公開了一種能夠將氣體滯留于緩沖室內的壓電泵。壓電泵具備隔膜、泵主體、第一止回閥、第二止回閥、緩沖室、端口以及壁部。泵主體具有:凹部,與所述隔膜共同構成壓力室;流入口,設置于所述凹部的與所述隔膜相對的底部;以及排出口,設置于所述底部,并與所述流入口分開設置。第一止回閥設置于所述泵主體的所述流入口,并使液體從一次側向所述壓力室流動。第二止回閥設置于所述泵主體的所述排出口,并使所述液體從所述壓力室向二次側流動。緩沖室設置于所述流入口的一次側及所述排出口的二次側中的至少一方。端口設置于所述緩沖室。壁部設置于所述緩沖室內,并形成滯留流入所述緩沖室的所述液體中的氣體的氣體室。
技術領域
本發明的實施方式涉及壓電泵以及液體噴出裝置。
背景技術
例如,已知在使用噴墨頭的墨循環式的記錄裝置等所使用的液體噴出裝置中使用壓電泵的技術。壓電泵通過使隔膜彎曲位移而使壓力室的容積變化,從流入口吸入液體,并且從排出口噴出液體。
已知壓電泵是在壓力室的一次側以及二次側具有緩沖室的結構。另外,也考慮通過將氣體滯留于緩沖室,使滯留的氣體作為緩沖器而發揮作用,吸收、發散由于隔膜的彎曲變化而產生的壓力變動,從而使流量增加。
發明內容
發明所要解決的技術問題
本發明所要解決的技術問題是提供能夠將氣體滯留于緩沖室內的壓電泵以及液體噴出裝置。
用于解決技術問題的手段
實施方式的壓電泵具備:隔膜;泵主體,具有:凹部,與所述隔膜共同構成壓力室;流入口,設置于所述凹部的與所述隔膜相對的底部;以及排出口,設置于所述底部,并與所述流入口分開設置;第一止回閥,設置于所述泵主體的所述流入口,并使液體從一次側向所述壓力室流動;第二止回閥,設置于所述泵主體的所述排出口,并使所述液體從所述壓力室向二次側流動;緩沖室,設置于所述流入口的一次側及所述排出口的二次側中的至少一方;端口,設置于所述緩沖室;以及壁部,設置于所述緩沖室內,并形成滯留流入所述緩沖室的所述液體中的氣體的氣體室。
實施方式的液體噴出裝置具備:液體罐;液體噴出頭,所述液體噴出頭的一次側以及二次側連接于所述液體罐;壓電泵;以及循環路,連接所述液體罐、所述液體噴出頭以及所述壓電泵,所述壓電泵具有:隔膜;泵主體,具有:凹部,與所述隔膜共同構成壓力室;流入口,設置于所述凹部的與所述隔膜相對的底部;以及排出口,設置于所述底部,并與所述流入口分開設置;第一止回閥,設置于所述泵主體的所述流入口,并使液體從一次側向所述壓力室流動;第二止回閥,設置于所述泵主體的所述排出口,并使所述液體從所述壓力室向二次側流動;緩沖室,設置于所述流入口的一次側及所述排出口的二次側中的至少一方;端口,設置于所述緩沖室;以及壁部,設置于所述緩沖室內,并形成滯留流入所述緩沖室的所述液體中的氣體的氣體室。
附圖說明
圖1是示出一實施方式所涉及的壓電泵的結構的剖視圖。
圖2是示出同一壓電泵的第一緩沖室以及第二緩沖室的結構的剖視圖。
圖3是示出同一壓電泵的第一緩沖室以及第二緩沖室的結構的剖視圖。
圖4是示出同一壓電泵的隔膜以及壓電元件的彎曲位移的例子的剖視圖。
圖5是示出同一壓電泵的隔膜以及壓電元件的彎曲位移的例子的剖視圖。
圖6是示出使用同一壓電泵的一例的剖視圖。
圖7是示出一實施方式所涉及的記錄裝置的結構的側視圖。
圖8是示出同一記錄裝置中所使用的液體噴出裝置的結構的說明圖。
圖9是示出同一記錄裝置中所使用的模塊控制部的結構的說明圖。
圖10是示出其他實施方式所涉及的壓電泵的第一緩沖室以及第二緩沖室的結構的剖視圖。
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