[發(fā)明專利]壓電泵以及液體噴出裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010125504.1 | 申請日： | 2020-02-27 |
| 公開（公告）號： | CN112109446B | 公開（公告）日： | 2022-05-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 后藤大輝;原千弘 | 申請（專利權(quán)）人： | 東芝泰格有限公司 |
| 主分類號： | B41J2/045 | 分類號： | B41J2/045 |
| 代理公司： | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 田喜慶 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 壓電 以及 液體 噴出 裝置 | ||
1.一種壓電泵，其特征在于，具備：
隔膜；
泵主體，具有：凹部，與所述隔膜共同構(gòu)成壓力室；流入口，設(shè)置于所述凹部的與所述隔膜相對的底部；以及排出口，設(shè)置于所述底部，并與所述流入口分開設(shè)置；
第一止回閥，設(shè)置于所述泵主體的所述流入口，并使液體從一次側(cè)向所述壓力室流動；
第二止回閥，設(shè)置于所述泵主體的所述排出口，并使所述液體從所述壓力室向二次側(cè)流動；
緩沖室，設(shè)置于所述流入口的一次側(cè)及所述排出口的二次側(cè)中的至少一方；
端口，設(shè)置于所述緩沖室；以及
壁部，設(shè)置于所述緩沖室內(nèi)，并形成滯留流入所述緩沖室的所述液體中的氣體的氣體室，
所述壁部的一端部一體地設(shè)置于所述緩沖室的二次側(cè)的內(nèi)表面，且所述壁部的另一端部設(shè)置于與所述端口分開且與所述端口相對的位置，所述壁部以避開所述流入口的方式從所述一端部朝向所述另一端部以規(guī)定的曲率半徑彎曲。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電泵，其特征在于，
所述緩沖室包括設(shè)置于所述流入口的一次側(cè)的流入側(cè)緩沖室以及設(shè)置于所述排出口的二次側(cè)的排出側(cè)緩沖室，
所述端口包括連接于所述流入側(cè)緩沖室的第一端口以及連接于所述排出側(cè)緩沖室的第二端口，
所述壁部設(shè)置于所述流入側(cè)緩沖室及所述排出側(cè)緩沖室中的至少一方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電泵，其特征在于，
所述壓力室由形成于所述泵主體的有底圓筒狀的所述凹部、設(shè)置于所述凹部的開口端側(cè)的所述隔膜以及設(shè)置于所述隔膜的外表面的壓電元件構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電泵，其特征在于，
所述隔膜是圓板狀的金屬板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電泵，其特征在于，
所述第一止回閥以及所述第二止回閥由對液體具有耐性的材料構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓電泵，其特征在于，
所述壁部具有設(shè)置于所述流入側(cè)緩沖室的第一壁部以及設(shè)置于所述排出側(cè)緩沖室的第二壁部，
所述第一壁部的一端在從所述第一端口流入的所述液體的流動方向上與所述第一端口相對配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓電泵，其特征在于，
所述壓力室通過設(shè)置于所述隔膜的所述壓電元件彎曲且所述隔膜變形使得容積可變。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓電泵，其特征在于，
所述壓電元件由PZT形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓電泵，其特征在于，
所述第一壁部的與所述第一端口相對的端部具有爪部。
10.一種液體噴出裝置，其特征在于，具備：
液體罐；
液體噴出頭，所述液體噴出頭的一次側(cè)以及二次側(cè)連接于所述液體罐；
壓電泵；以及
循環(huán)路，連接所述液體罐、所述液體噴出頭以及所述壓電泵，
所述壓電泵具有：
隔膜；
泵主體，具有：凹部，與所述隔膜共同構(gòu)成壓力室；流入口，設(shè)置于所述凹部的與所述隔膜相對的底部；以及排出口，設(shè)置于所述底部，并與所述流入口分開設(shè)置；
第一止回閥，設(shè)置于所述泵主體的所述流入口，并使液體從一次側(cè)向所述壓力室流動；
第二止回閥，設(shè)置于所述泵主體的所述排出口，并使所述液體從所述壓力室向二次側(cè)流動；
緩沖室，設(shè)置于所述流入口的一次側(cè)及所述排出口的二次側(cè)中的至少一方；
端口，設(shè)置于所述緩沖室；以及
壁部，設(shè)置于所述緩沖室內(nèi)，并形成滯留流入所述緩沖室的所述液體中的氣體的氣體室，
所述壁部的一端部一體地設(shè)置于所述緩沖室的二次側(cè)的內(nèi)表面，且所述壁部的另一端部設(shè)置于與所述端口分開且與所述端口相對的位置，所述壁部以避開所述流入口的方式從所述一端部朝向所述另一端部以規(guī)定的曲率半徑彎曲。
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