[發明專利]一種SiCf 有效
| 申請號: | 202010125246.7 | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN111393178B | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發明(設計)人: | 王志江;趙海瑞 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | C04B35/80 | 分類號: | C04B35/80;C04B35/565;C09K3/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 sic base sub | ||
一種SiCf@BN核殼結構短切纖維的制備方法,具體涉及一種SiCf@BN核殼結構短切纖維的制備方法。屬于航空航天、吸波、環保、催化、生物傳感、半導體材料、能源和核防護材料制備領域。本發明的目的是為了解決傳統碳化硅短切纖維吸波性能較弱的問題,制備方法:一、預處理;二、浸漬;三、焙燒;四、重復焙燒,得到具有BN外殼的SiCf@BN。優點:一、成本低、操作簡單;二、BN外殼的厚度可調節;三、具有優異的吸波性能。本發明應用于具有核殼結構的SiCf@BN的制備領域。
技術領域
本發明涉及一種SiCf@BN核殼結構短切纖維的制備方法。
背景技術
作為一種在吸波方面有極大應用潛力的材料,碳化硅短切纖維(SiCf)自身具有一定的吸波性能,在一定程度上能夠吸收電磁波,減少電磁輻射污染、信息泄露等問題的發生,在民用和軍事領域上都有廣泛的應用前景。同時,SiCf具有密度低、化學性質穩定、熱穩定性優異等特點,能夠滿足一些極端條件下的應用要求。但是,在2GHz~18GHz頻率范圍內對SiCf進行吸波性能測試,結果表明SiCf能達到的反射損耗值(RL)只有-16.433dB,雖然小于-10dB,具有一定的吸波性能,但是吸波效果并不優異。
發明內容
本發明的目的是為了解決傳統碳化硅短切纖維吸波性能較弱的問題,提供了一種SiCf@BN核殼結構短切纖維的制備方法。
本發明一種SiCf@BN核殼結構短切纖維的制備方法,是按以下步驟完成的:
一、預處理:稱取碳化硅短切纖維,加入堿溶液中,于20℃~80℃條件下攪拌洗滌,抽濾、蒸餾水洗滌至中性后,轉移至HF溶液中,攪拌洗滌,抽濾、蒸餾水洗滌至中性后,再于HCl溶液中洗滌,然后抽濾、蒸餾水洗滌至中性,再在20℃~160℃條件下烘干,得到預處理后的碳化硅短切纖維;
二、浸漬:稱取硼源、氮源,加入溶劑A中,超聲5min~60min,獲得浸漬液,將預處理后的碳化硅短切纖維浸沒到浸漬液中,超聲3min~10min,然后靜置浸漬,抽濾,將抽濾后得到的固體物于20℃~160℃條件下干燥,得到浸漬硼源、氮源后的碳化硅短切纖維;其中溶劑A為水和甲醇按體積比1:(0.5~3)的比例混合而成的溶液;
三、焙燒:將浸漬硼源、氮源后的碳化硅短切纖維置于管式爐中,于氮氣環境中升溫,然后進行焙燒,待冷卻至室溫后,停止通氣;
四、重復焙燒:步驟三處理后即完成SiCf@BN核殼結構短切纖維的制備或將步驟二和步驟三的操作重復1~10次,得到具有SiCf@BN核殼結構的短切纖維。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工業大學,未經哈爾濱工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010125246.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 一種Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>復相熱障涂層材料
- 無鉛[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>納米管及其制備方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一種Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 復合膜及其制備方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 熒光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一種(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制備方法
- 熒光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復合材料的制備方法





