[發(fā)明專利]一種光控取向方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010123858.2 | 申請日： | 2020-02-27 |
| 公開（公告）號： | CN111308791B | 公開（公告）日： | 2021-04-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陸建鋼;黃凱;馮一凡;何金蔓 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 上海旭誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31220 | 代理人： | 鄭立 |
| 地址： | 200240 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 光控 取向 方法 | ||
本發(fā)明提出一種光控取向法及裝置，用同一個曝光光源同時對兩層光取向?qū)幼龉馊∠颍诠庠吹墓饩€照射方向，依次放置第一光取向?qū)印⒌谝恍饨橘|(zhì)層、第二光取向?qū)樱谒銎毓夤庠磁c所述第一光取向?qū)又g，加入掩模板，控制曝光區(qū)域，控制所述第一旋光介質(zhì)層對光線偏振方向做N度旋轉(zhuǎn)，使沿光線照射路徑上所述第二光取向?qū)拥墓馊∠蚺c所述第一光取向?qū)拥墓馊∠蛳嗖頝度。本發(fā)明的有益效果是，實現(xiàn)偏振無關(guān)液晶器件微區(qū)多疇的微區(qū)精準(zhǔn)對位，且方法簡便。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶器件制備領(lǐng)域，一種光控取向方法。
背景技術(shù)
近年來，隨著光通訊技術(shù)的發(fā)展，對光通訊中器件的要求也逐步提高。偏振無關(guān)器件的使用可以極大的降低光通訊系統(tǒng)的復(fù)雜度。光控微區(qū)多疇正交取向的液晶器件作為一種新的偏振無關(guān)器件，其偏振相關(guān)隔離度好，但其制備一直較為繁瑣。傳統(tǒng)方法是將兩基板分別進行微區(qū)多疇曝光，然后將上下基板精準(zhǔn)對位組裝，這種方法較為復(fù)雜，且對工藝精度要求高，制備繁瑣。且當(dāng)疇區(qū)的尺寸較小時，要實現(xiàn)微區(qū)的精準(zhǔn)對位就更加困難。因此這種傳統(tǒng)的偏振無關(guān)液晶器件微區(qū)多疇實現(xiàn)方法無法得到大規(guī)模的商業(yè)生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是：在可以實現(xiàn)偏振無關(guān)液晶器件微區(qū)多疇正交取向的同時并減低工藝的復(fù)雜度。
為解決上述問題，本發(fā)明提出一種光控取向法，用同一個曝光光源同時對兩層光取向?qū)幼龉馊∠颍诠庠吹墓饩€照射方向，依次放置第一光取向?qū)印⒌谝恍饨橘|(zhì)層、第二光取向?qū)樱凰龅谝还馊∠驅(qū)印⑺龅谝恍饨橘|(zhì)層使用透光材料制成。
進一步地，在所述曝光光源與所述第一光取向?qū)又g，加入掩模板，控制曝光區(qū)域。
進一步地，控制所述第一旋光介質(zhì)層對光線偏振方向做N度旋轉(zhuǎn)，使沿光線照射路徑上所述第二光取向?qū)拥墓馊∠蚺c所述第一光取向?qū)拥墓馊∠蛳嗖頝度。
進一步地，在光取向前，對所述第一光取向?qū)印⑺龅诙馊∠驅(qū)臃謩e做預(yù)曝光處理，使所述第一光取向?qū)印⑺龅诙馊∠驅(qū)佑幸欢ǖ墓馊∠颉?/p>
進一步地，在所述第二光取向?qū)雍螅毓饩€方向再放置第二旋光介質(zhì)層、第三光取向?qū)樱瑫r對三層進行光取向；所述第二旋光介質(zhì)層與曝光光源之間的各層均為透光材料制成。
進一步地，在制作偏振無關(guān)液晶器件時，控制所述第一旋光介質(zhì)層對光線的偏振方向做90°旋轉(zhuǎn)。
進一步地，在制作偏振無關(guān)液晶器件時，將所述第一光取向?qū)印⑺龅谝恍饨橘|(zhì)層、所述第二光取向?qū)咏M裝成盒，曝光完成后，浸泡沖洗掉所述第一旋光介質(zhì)層，填充入液晶即可。
一種光取向裝置，包括沿曝光光線傳播方向依次放置的第一光取向?qū)印⒌谝恍饨橘|(zhì)層、第二光取向?qū)樱凰龅谝还馊∠驅(qū)印⑺龅谝恍饨橘|(zhì)層均使用透光材料制成。
進一步地，包括掩模板，放置在曝光光源與所述第一光取向?qū)又g，所述掩模板只允許部分區(qū)域曝光光線透過。
進一步地，包括第二旋光介質(zhì)層、第三光取向?qū)樱毓饩€方向依次放置在所述第二光取向?qū)雍螅凰龅诙馊∠驅(qū)印⑺龅诙饨橘|(zhì)層均為透光材料制成。
本發(fā)明的有益效果是，實現(xiàn)偏振無關(guān)液晶器件微區(qū)多疇的微區(qū)精準(zhǔn)對位，且方法簡便。
附圖說明
圖1是本發(fā)明一個較佳實施例的裝置結(jié)構(gòu)圖；
圖2是本發(fā)明一個較佳實施例的上取向?qū)?取向示意圖；
圖3是本發(fā)明一個較佳實施例的下取向?qū)?取向示意圖；
其中，1-曝光光源，2-掩膜版，3-上基板，4-上電極層1，5-上取向?qū)樱?-旋光介質(zhì)層，7-下取向?qū)樱?-下電極層，9-下基板。
具體實施方式
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- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
