[發明專利]一種光控取向方法

有效

• 申請號: 202010123858.2
• 申請日: 2020-02-27
• 公開（公告）號: CN111308791B
• 公開（公告）日: 2021-04-27
• 發明（設計）人: 陸建鋼;黃凱;馮一凡;何金蔓
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 上海旭誠知識產權代理有限公司 31220
• 代理人: 鄭立

1.一種光控取向法，其特征在于，用同一個曝光光源同時對兩層光取向層做光取向，在光源的光線照射方向，依次放置第一光取向層、第一旋光介質層、第二光取向層；所述第一光取向層、所述第一旋光介質層使用透光材料制成；所述第一旋光介質層對光線偏振方向做N度旋轉，使沿光線照射路徑上所述第二光取向層的光取向與所述第一光取向層的光取向相差N度。

2.如權利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在所述曝光光源與所述第一光取向層之間，加入掩模板，控制曝光區域。

3.如權利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在光取向前，對所述第一光取向層、所述第二光取向層分別做預曝光處理，使所述第一光取向層、所述第二光取向層有一定的光取向。

4.如權利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在所述第二光取向層后，沿光線方向再放置第二旋光介質層、第三光取向層，同時對三層進行光取向；所述第二旋光介質層與曝光光源之間的各層均為透光材料制成；所述第二旋光介質層對光線偏振方向做N度旋轉。

5.如權利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在制作偏振無關液晶器件時，控制所述第一旋光介質層對光線的偏振方向做90°旋轉。

6.如權利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在制作偏振無關液晶器件時，將所述第一光取向層、所述第一旋光介質層、所述第二光取向層組裝成盒，曝光完成后，浸泡沖洗掉所述第一旋光介質層，填充入液晶即可。

7.一種光取向裝置，其特征在于，包括沿曝光光線傳播方向依次放置的第一光取向層、第一旋光介質層、第二光取向層；所述第一光取向層、所述第一旋光介質層均使用透光材料制成；所述第一旋光介質層用于對光線偏振方向做N度旋轉，使所述第二光取向層的光取向與所述第一光取向層的光取向相差N度。

8.如權利要求7所述的光取向裝置，其特征在于，包括掩模板，放置在曝光光源與所述第一光取向層之間，所述掩模板只允許部分區域曝光光線透過。

9.如權利要求7所述的光取向裝置，其特征在于，包括第二旋光介質層、第三光取向層，沿光線方向依次放置在所述第二光取向層后；所述第二光取向層、所述第二旋光介質層均為透光材料制成；所述第二旋光介質層用于對光線偏振方向做N度旋轉。