[發明專利]一種制備5N級高純銥粉的方法在審
| 申請號: | 202010122460.7 | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN111112637A | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發明(設計)人: | 董海剛;趙家春;裴洪營;崔浩;吳躍東;童偉鋒;戴華;王亞雄;吳曉峰 | 申請(專利權)人: | 貴研鉑業股份有限公司 |
| 主分類號: | B22F9/22 | 分類號: | B22F9/22;C22B3/44;C22B11/00 |
| 代理公司: | 昆明今威專利商標代理有限公司 53115 | 代理人: | 賽曉剛 |
| 地址: | 650000 云南省昆明市五華區高*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 高純 方法 | ||
本發明公開了一種制備5N級高純銥粉的方法,采用常規硫化沉淀、氯銥酸銨沉淀、選擇性還原、王水+氯化銨溶液溶解洗滌等除雜方法及煅燒氫還原相結合的工藝制備5N級高純銥。本發明的制備工藝流程簡單,容易實施,均使用常規化學試劑及設備,制備條件溫和,成本低,所得銥粉純度達5N(99.999%),雜質含量小于10ppm,適用于電子行業、高純貴金屬材料領域。
技術領域
本發明涉及貴金屬粉末的制備,特別涉及一種5N級高純銥粉的制備方法。
背景技術
銥是鉑族金屬中的一種,由于鉑族金屬具有相似的化學特性,銥的提純十分困難。
中國專利87104181.2提出了一種利用加壓氫還原分離提純銥的方法,將銥溶液第一步加壓氫還原分離銥中的貴金屬雜質,然后通過離子交換等方法除去賤金屬;第二步加壓氫還原得到純度大于99.9%的純銥粉;
專利200310121983.6公開了一種分離銠、銥的新方法,將一定濃度比的銠、銥溶液放入反應器,在常壓下升到一定溫度通入氫氣進行還原,銠被還原成金屬,銥不被還原,分離后,銥的純度99.99%。
專利201010567367.3公開了一種從含銥物料中提取銥的方法,將含銥物料用鹽酸溶解;加入硝酸和NH4Cl反應得到銥鉑混合銨鹽;加入水合聯氨使鉑還原析出黑色海綿鉑粉及銥、鐵雜質沉淀;加入H2O2破壞水合聯氨,加入(NH4)2S凈化;加入硝酸氧和NH4Cl沉淀使銥生成(NH4)2IrCl6;煅燒、氫還原,得到純度99.98%的銥粉。
專利201310216080.X公開了一種分離提純銥的方法,控制銥的質量濃度為60~100g/L,調溶液pH為1~3;向溶液中緩慢加入鋁粉;將還原后的溶液冷卻后過濾、洗滌;將過濾后的銥溶液的質量濃度保持為30~50g/L,調節pH=1~1.5,然后用陽離子交換樹脂反復交換2~4次除雜,賤金屬基本被樹脂吸附;濃縮干燥得到IrCl3晶體;將烘干后的IrCl3晶體放入氫還爐中還原,得到純度大于99.95%的銥粉。
中國專利201610738560.6公開了一種含銥料液中貴金屬雜質的脫除方法,包括以下步驟:調整含銥料液酸度、熱態下加入D-異抗壞血酸鈉除去鉑鈀雜質、氫還原法除去銠雜質、精煉提取銥粉產品,最終獲得的銥粉純度99.99%。
有文獻采用P204萃取除去賤金屬陽離子-N235萃取除去以絡合陰離子存在的貴金屬雜質-H2還原除銠及其他金屬雜質-732#樹脂交換除去痕量的賤金屬陽離子NH4Cl沉淀銥、H2還原銥-HF除硅工藝制備銥基體,研制出的銥基體純度高達99.999%,分析了銥粉中Rh、Pt、Pd、Au、Ag、Cu、Fe、Ni、Al、Pb、Si、Mn、Mg、Sn、Zn和Ru16種雜質元素。
中國專利201810471481.2公開了一種高純銥粉的制備方法,包括以下步驟:溶解、絡合沉淀、堿溶選擇性除銠、鹽酸溶解、陽離子交換、氧化沉淀、煅燒還原、混酸煮洗,最終獲得的銥粉純度99.999%。
綜述可以看出,現有的銥提純方法中大多都能獲得純度99.9~99.99%的產品;對于5N級(99.999%)銥粉的制備研究相對較少,且流程較為復雜。
發明內容
本發明的目的是提供一種制備5N級高純銥粉的方法,該方法工藝簡單,所得銥粉純度可達99.999%,雜質含量小于10ppm,適用于電子行業、高純貴金屬材料等領域。
本發明實現上述目的的技術方案如下:
一種制備5N級高純銥粉的方法,包括如下步驟:
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