[發明專利]用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202010118267.6
• 申請日: 2020-02-26
• 公開（公告）號: CN111239860A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 鄧雪然;雷向陽;楊偉;張清華;惠浩浩;馬紅菊;王天宇;張帥;高銳;蘇文虎
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02F1/355
• 代理公司: 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229
• 代理人: 李蕊

1.一種用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1.將正硅酸乙酯、無水乙醇、水、堿性催化劑混合均勻，常溫反應2-6h，然后在40℃下回流得到溶膠；

S2.將硅烷偶聯劑加入S1所得溶膠，再加入酸性催化劑，在80-100℃下繼續反應4-8h，然后加入引發劑，得到目標溶膠；

S3.將S2所得目標溶膠涂覆于KDP晶體上，得到待固化薄膜；

S4.對S3所得待固化薄膜采用紫外輻照，然后烘烤，即得。

2.根據權利要求1所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S1中正硅酸乙酯、無水乙醇、水、堿性催化劑的摩爾比為0.5-1.5：8-12：2-4：0.001-0.003。

3.根據權利要求2所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S1中正硅酸乙酯、無水乙醇、水、堿性催化劑的摩爾比為1：10：3：0.002。

4.根據權利要求1所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S1中堿性催化劑為氨水。

5.根據權利要求1所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S2中硅烷偶聯劑與溶膠的質量比為1-7：10；酸性催化劑與溶膠的體積比為1-2：100；引發劑與溶膠的質量比為1-5：100。

6.根據權利要求1所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S2中酸性催化劑為鹽酸或硝酸。

7.根據權利要求1所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S3具體為：目標溶膠以300-700rpm的轉速于KDP晶體上旋涂50-70s。

8.根據權利要求1所述的用于高功率激光裝置的三倍頻增透膜的制備方法，其特征在于，所述S4具體為：先采用250-400nm的光源，以400-600mW/cm²的強度輻照150-200s，然后采用70-130℃的溫度烘烤36-60h。

9.采用權利要求1-8中任一項所述的方法制備得到的三倍頻增透膜。

10.權利要求9所述的三倍頻增透膜在高功率激光裝置中的應用。