[發明專利]反射式可撓顯示裝置在審
| 申請號： | 202010117371.3 | 申請日： | 2020-02-25 |
| 公開（公告）號： | CN113376881A | 公開（公告）日： | 2021-09-10 |
| 發明（設計）人： | 稲田利彌;曾宇志;黃信豪;賴柜宏;朱正仁 | 申請（專利權）人： | 群創光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1333 | 分類號： | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人： | 侯奇慧 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 式可撓 顯示裝置 | ||
1.一種反射式可撓顯示裝置，其特征在于，包括：
一第一軟性基板；
一第二軟性基板；
一液晶層，設置于所述第一軟性基板與所述第二軟性基板之間；以及
一反射像素電極，設置于所述第一軟性基板上；
其中，所述第二軟性基板的CIELAB的b*值小于或等于所述第一軟性基板的CIELAB的b*值。
2.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述第一軟性基板與所述第二軟性基板的厚度分別介于1微米至45微米之間。
3.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述第一軟性基板與所述第二軟性基板的厚度分別介于30微米至40微米之間。
4.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述第二軟性基板的材料不同于所述第一軟性基板的材料。
5.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述第二軟性基板的所述b*值小于或等于10。
6.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述第一軟性基板的所述b*值大于或等于10。
7.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，還包括：
一光學層，設置于所述第一軟性基板與所述第二軟性基板之間，所述光學層調整所述反射式可撓顯示裝置的一光學性質。
8.如權利要求7所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述光學層包括一相位調整層。
9.如權利要求8所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述相位調整層的一平面外相位差值介于30納米至300納米。
10.如權利要求1所述的反射式可撓顯示裝置，其特征在于，所述反射式可撓顯示裝置為一卷軸垂掛式顯示裝置。
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