[發明專利]指紋識別模組及顯示裝置

在審

• 申請號: 202010115827.2
• 申請日: 2020-02-25
• 公開（公告）號: CN111291710A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 耿越;薛艷娜;詹小舟;王奎元;豐亞潔;李成;黃海波;代翼;李澤飛;祁朝陽
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方傳感技術有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435
• 代理人: 周穎穎

1.一種指紋識別模組，其特征在于，包括基底，基底上設有多個按陣列排布的指紋識別單元，所述指紋識別單元包括用于聚光的透鏡層、用于限制光通過的導光層以及用于對入射光進行光電轉換的感光元件，所述感光元件位于所述基底的一側，所述導光層位于所述感光元件遠離所述基底一側，所述透鏡層位于所述導光層遠離所述基底的一側；所述導光層具有至少一個光通道，所述透鏡層包括與各個所述光通道對應設置的匯聚透鏡。

2.根據權利要求1的指紋識別模組，其特征在于，所述導光層包括自靠近所述基底至遠離所述基底的方向上依次層疊設置的第一遮光層、第一填充層和第二遮光層，所述光通道包括設在所述第一遮光層上的第一通光孔和設在所述第二遮光層上的第二通光孔，所述第一通光孔和所述第二通光孔同軸設置。

3.根據權利要求2的指紋識別模組，其特征在于，所述第一通光孔孔徑和所述第二通光孔的孔徑相同，所述匯聚透鏡的焦點位于其對應的光通道的中心線上。

4.根據權利要求1-3任一項的指紋識別模組，其特征在于，還包括第二填充層，所述第二填充層位于所述透鏡層和所述導光層之間。

5.根據權利要求2的指紋識別模組，其特征在于，所述感光元件包括光電轉換層、位于所述光電轉換層靠近基底一側的第一電極以及位于所述光電轉換層遠離基底一側的第二電極；

所述第二電極和所述第一遮光層之間設有絕緣層，所述絕緣層具有露出所述第二電極的過孔，所述第一遮光層通過所述過孔與所述第二電極相連接，所述感光元件經由所述第一遮光層提供偏置電壓。

6.根據權利要求5所述的指紋識別模組，其特征在于，所述過孔在所述基底上的正投影與所述光電轉換層在所述基底上的正投影不重合。

7.根據權利要求5的指紋識別模組，其特征在于，還包括位于所述基底和所述感光元件之間的薄膜晶體管，所述薄膜晶體管包括：

柵極層；

形成于所述柵極層遠離所述基底一側的柵絕緣層；

形成于所述柵絕緣層遠離所述基底一側的有源層；

形成于所述有源層遠離基底一側的源漏金屬層，所述源漏金屬層包括分別與所述有源層相連接的源電極和漏電極；其中，

所述第一電極與所述漏電極相連接；或者，第一電極與漏電極為同一電極。

8.根據權利要求7的指紋識別模組，其特征在于，所述薄膜晶體管還包括位于所述源電極和所述漏電極之間的溝道區，所述溝道區位于所述有源層遠離所述基底的一側；

所述第一遮光層在所述基底上的正投影覆蓋所述溝道區在基底上的正投影。

9.根據權利要求7的指紋識別模組，其特征在于，所述光電轉換層在所述基底上的正投影與所述薄膜晶體管在所述基底上的正投影不重合；

所述指紋識別模組還包括位于所述源漏金屬層與所述絕緣層之間的絕緣平坦層，所述絕緣平坦層遠離基底的一側不高于所述第二電極遠離基底的一側，所述絕緣平坦層包覆所述感光元件并至少露出部分所述第二電極。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括顯示面板和權利要求1-9任一項所述的指紋識別模組，所述顯示面板包括陣列基板和與陣列基板相連的玻璃蓋板，所述指紋識別模組設有透鏡層的一側通過膠框與所述陣列基板相連，所述玻璃蓋板設在所述陣列基板遠離指紋識別模組的一側。