[發(fā)明專利]一種氧化鋯粉體及其超細(xì)研磨方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010112534.9
• 申請(qǐng)日: 2020-02-24
• 公開（公告）號(hào): CN111285399A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅永義;梅國鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞市永篤納米科技有限公司
• 主分類號(hào): C01G25/02
• 分類號(hào): C01G25/02;B02C21/00;B02C17/10;B82Y30/00
• 代理公司: 東莞市永邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44474
• 代理人: 曾婉憶

本發(fā)明公開了一種氧化鋯粉體及其超細(xì)研磨方法，包括如下重量份數(shù)的組分：100份氧化鋯粉體、120?240份去離子水、2?4份分散劑、4?6份表面活性劑、8?10份硅烷偶聯(lián)劑乙醇溶液；通過將上述原料混合后置于滾筒球磨機(jī)研磨后，再置于臥式砂磨機(jī)和納米砂磨機(jī)中在研磨介質(zhì)下循環(huán)研磨后得到氧化鋯粉體。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明通過優(yōu)選物料配制漿料并經(jīng)過滾筒球磨、臥式研磨和納米研磨后實(shí)現(xiàn)了氧化鋯粉體的超細(xì)納米研磨，通過砂磨機(jī)技術(shù)配合分散劑和分散工藝的優(yōu)化，可以實(shí)現(xiàn)共沉淀氧化鋯粉體的超細(xì)化，解決了納米氧化鋯粉體生產(chǎn)成本高以及難以實(shí)現(xiàn)超細(xì)研磨的缺陷，工藝簡單，具有廣闊的市場前景。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及無機(jī)材料技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種氧化鋯粉體及其超細(xì)研磨方法。

背景技術(shù)

氧化鋯具有熔點(diǎn)高、耐腐蝕、抗氧化、高溫蒸汽壓低、良好的粒子電導(dǎo)率等物理化學(xué)性質(zhì)，在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的使用。納米氧化鋯粉體具有燒結(jié)溫度低、制品強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn)，但是生產(chǎn)成本高，隨著砂磨機(jī)技術(shù)的進(jìn)步配合分散工藝，如何研制出超細(xì)且尺寸穩(wěn)定的氧化鋯粉體成為研發(fā)難點(diǎn)。有鑒于此，確有必要開發(fā)一種可以實(shí)現(xiàn)共沉淀氧化鋯粉體的超細(xì)化、具有相純度高、顆粒細(xì)小、粒徑分布較窄等優(yōu)點(diǎn)的氧化鋯粉體及其超細(xì)研磨方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述不足，提供一種氧化鋯粉體及其超細(xì)研磨方法，通過優(yōu)選物料配制漿料并經(jīng)過滾筒球磨、臥式研磨和納米研磨后實(shí)現(xiàn)了氧化鋯粉體的超細(xì)納米研磨。

本發(fā)明為達(dá)到上述目的所采用的技術(shù)方案是：

一種氧化鋯粉體，其包括如下重量份數(shù)的組分：100份氧化鋯粉體、120-240份去離子水、2-4份分散劑、4-6份表面活性劑、8-10份硅烷偶聯(lián)劑乙醇溶液。

優(yōu)選地，所述的硅烷偶聯(lián)劑乙醇溶液中硅烷偶聯(lián)劑KH560的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)為1-5wt％。

優(yōu)選地，所述的表面活性劑為十六烷基三甲基溴化銨和正丁醇中的至少一種。

優(yōu)選地，所述的分散劑為檸檬酸銨、聚丙烯酸銨、四甲基氫氧化銨和多聚磷酸銨中的至少一種。

優(yōu)選地，該氧化鋯粉體為似球形的ZrO2納米粉體，粉體粒徑分布在50-100nm范圍。

一種上述的氧化鋯粉體的超細(xì)研磨方法，其包括如下步驟：

S1：稱取原料，按權(quán)利要求1所的原料比例混合后得到氧化鋯粉體物料，置于滾筒球磨機(jī)中進(jìn)行第一次球磨，得到第一氧化鋯漿料；

S2：將第一氧化鋯漿料置于60L臥式砂磨機(jī)中在第一研磨介質(zhì)下進(jìn)行第二次研磨，循環(huán)研磨一定時(shí)間后，得到第二氧化鋯漿料；

S3：將第二氧化鋯漿料置于10L納米砂磨機(jī)中在第二研磨介質(zhì)下進(jìn)行第三次研磨，循環(huán)研磨一定時(shí)間后，得到氧化鋯粉體；

優(yōu)選地，所述的步驟S1中球磨5-8小時(shí)，在常溫下進(jìn)行球磨；步驟S1中球磨后的第一氧化鋯漿料的測試粒度D50為0.5-2.5um。

優(yōu)選地，所述的步驟S2中第一研磨介質(zhì)為0.4-0.6mm的氧化鋯微珠；循環(huán)研磨時(shí)間為2-4小時(shí)，在常溫下研磨；研磨后的第二氧化鋯漿料的測試粒度D50為0.3-0.5um。

優(yōu)選地，所述的步驟S3中第二研磨介質(zhì)為0.1-0.25mm的氧化鋯微珠；循環(huán)研磨時(shí)間為2-4小時(shí)，在常溫下研磨；研磨后的氧化鋯粉體的測試粒度D50為50-100nm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下有益效果：