[發明專利]一種氧化鋯粉體及其超細研磨方法

在審

• 申請號: 202010112534.9
• 申請日: 2020-02-24
• 公開（公告）號: CN111285399A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 羅永義;梅國鵬
• 申請（專利權）人: 東莞市永篤納米科技有限公司
• 主分類號: C01G25/02
• 分類號: C01G25/02;B02C21/00;B02C17/10;B82Y30/00
• 代理公司: 東莞市永邦知識產權代理事務所(普通合伙) 44474
• 代理人: 曾婉憶

1.一種氧化鋯粉體，其特征在于，包括如下重量份數的組分：100份氧化鋯粉體、120-240份去離子水、2-4份分散劑、4-6份表面活性劑、8-10份硅烷偶聯劑乙醇溶液。

2.如權利要求1所述的氧化鋯粉體，其特征在于，所述的硅烷偶聯劑乙醇溶液中硅烷偶聯劑KH560的質量百分數為1-5wt％。

3.如權利要求1所述的氧化鋯粉體，其特征在于，所述的表面活性劑為十六烷基三甲基溴化銨和正丁醇中的至少一種。

4.如權利要求1所述的氧化鋯粉體，其特征在于，所述的分散劑為檸檬酸銨、聚丙烯酸銨、四甲基氫氧化銨和多聚磷酸銨中的至少一種。

5.如權利要求1所述的氧化鋯粉體，其特征在于，該氧化鋯粉體為似球形的ZrO2納米粉體，粉體粒徑分布在50-100nm范圍。

6.一種如權利要求1-5任一所述的氧化鋯粉體的超細研磨方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1：稱取原料，按權利要求1所的原料比例混合后得到氧化鋯粉體物料，置于滾筒球磨機中進行第一次球磨，得到第一氧化鋯漿料；

S2：將第一氧化鋯漿料置于60L臥式砂磨機中在第一研磨介質下進行第二次研磨，循環研磨一定時間后，得到第二氧化鋯漿料；

S3：將第二氧化鋯漿料置于10L納米砂磨機中在第二研磨介質下進行第三次研磨，循環研磨一定時間后，得到氧化鋯粉體。

7.如權利要求6所述的氧化鋯粉體的超細研磨方法，其特征在于，所述的步驟S1中球磨5-8小時，在常溫下進行球磨；步驟S1中球磨后的第一氧化鋯漿料的測試粒度D50為0.5-2.5um。

8.如權利要求6所述的氧化鋯粉體的超細研磨方法，其特征在于，所述的步驟S2中第一研磨介質為0.4-0.6mm的氧化鋯微珠；循環研磨時間為2-4小時，在常溫下研磨；研磨后的第二氧化鋯漿料的測試粒度D50為0.3-0.5um。

9.如權利要求6所述的氧化鋯粉體的超細研磨方法，其特征在于，所述的步驟S3中第二研磨介質為0.1-0.25mm的氧化鋯微珠；循環研磨時間為2-4小時，在常溫下研磨；研磨后的氧化鋯粉體的測試粒度D50為50-100nm。