[發明專利]一種噴頭、噴墨打印系統及基板處理方法

有效

• 申請號: 202010112077.3
• 申請日: 2020-02-24
• 公開（公告）號: CN111267492B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 任華進
• 申請（專利權）人: 納晶科技股份有限公司
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14;B41J2/01;B41J29/26
• 代理公司: 寧波聚禾專利代理事務所(普通合伙) 33336
• 代理人: 顧賽喜;糜婧

1.一種噴頭，其特征在于，包括第一出液通道、第一出液口以及除膜單元，所述第一出液口連通所述第一出液通道，第一出液通道輸送第一溶液，所述除膜單元設有第二出液通道、第二出液口、回吸通道和回吸口，所述第二出液口連通所述第二出液通道，第二出液通道輸送第二溶液，第二溶液與第一溶液得以相溶解，所述回吸口連通所述回吸通道，各所述回吸口和各所述第二出液口相鄰設置。

2.根據權利要求1所述的噴頭，其特征在于，所述第二出液口和所述回吸口成對地排列于所述噴頭的一部分區域，所述第一出液口排列于所述噴頭的剩余部分區域。

3.根據權利要求1或2所述的噴頭，其特征在于，所述第一出液口與所述回吸口的高度差為0~200μm。

4.根據權利要求1或2所述的噴頭，其特征在于，所述第二出液口和所述第一出液口高于所述回吸口，所述第一出液口與所述回吸口的高度差為100~150μm。

5.一種噴墨打印系統，其特征在于，包括如權利要求書1~4中任一所述的噴頭。

6.根據權利要求5所述的噴墨打印系統，其特征在于，其進一步包括：

出液模塊，所述出液模塊包括第一溶液存儲單元和第二溶液存儲單元，所述第一出液通道連接所述第一溶液存儲單元，所述第二出液通道連接所述第二溶液存儲單元；

回吸模塊，所述回吸模塊包括電磁閥和負壓腔，所述電磁閥連接所述回吸通道和所述負壓腔，所述電磁閥得以控制所述回吸通道回吸溶解液；

控制模塊，所述控制模塊分別連接所述出液模塊和所述回吸模塊，所述控制模塊向所述出液模塊提供出液信號，使得所述第一溶液存儲單元中的第一溶液進入所述第一出液通道，或所述第二溶液存儲單元中的第二溶液進入所述第二出液通道，所述控制模塊向所述電磁閥提供回吸信號，得以打開或關閉所述電磁閥。

7.根據權利要求6所述的噴墨打印系統，其特征在于，其進一步包括運動模塊，所述運動模塊連接所述控制模塊和所述噴頭，所述控制模塊得以控制所述運動模塊將所述噴頭定位。

8.根據權利要求7所述的噴墨打印系統，其特征在于，所述回吸模塊進一步包括分離裝置和管道，所述管道連接所述回吸通道、電磁閥和所述分離裝置，所述分離裝置內形成所述負壓腔。

9.一種基于如權利要求5~8中任一所述的噴墨打印系統的基板處理方法，其特征在于，包括步驟：

S1移動所述噴墨打印系統的噴頭至基板的目標區域上方，所述目標區域內有第一溶液形成的膜層，所述目標區域為具有缺陷的區域；

S2通過所述噴頭的第二出液口向所述目標區域噴出第二溶液，溶解所述目標區域中的所述膜層，產生溶解液；

S3通過所述噴頭的回吸口回吸所述溶解液，動態地去除所述目標區域中的所述膜層。

10.根據權利要求9所述的處理方法，其特征在于，所述基板包括多個子區域，所述噴墨打印系統可選擇地處理至少一個所述子區域。

11.根據權利要求9所述的處理方法，其特征在于，步驟S2包括步驟：

S21向所述噴墨打印系統的出液模塊發出所述第二溶液的出液信號；

S22所述出液模塊中的第二溶液存儲單元向所述噴頭的第二出液通道提供所述第二溶液；

S23從所述噴頭的第二出液口向目標子區域噴出所述第二溶液，所述第二溶液落到目標子區域的膜層上，所述膜層被溶解到所述第二溶液中。

12.根據權利要求9所述的處理方法，其特征在于，步驟S3包括步驟：

S31向所述噴墨打印系統的回吸模塊發出回吸信號；

S32打開所述回吸模塊中的電磁閥，連通所述回吸通道和負壓腔；

S33所述回吸通道吸走所述溶解液。

13.根據權利要求9~12中任一所述的處理方法，其特征在于，進一步包括步驟：S4重新打印，在步驟S3回吸完溶解液后，所述目標區域中的膜層被清除，所述噴頭通過出液模塊的第一溶液存儲單元向所述目標區域重新進行噴墨打印，修復所述基板中的各個所述目標區域。