[發明專利]一種氧化反應裝置及其在醛類化合物氧化反應中的應用有效
| 申請號: | 202010107806.6 | 申請日: | 2020-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN111205178B | 公開(公告)日: | 2022-04-19 |
| 發明(設計)人: | 劉振峰;趙一鳴;袁帥;董龍躍;叢鑫;董科;劉超;黃少峰;呂艷紅;任亞鵬;趙聰;劉喆;許振成;崔乾;王鵬;余炎冰;王加琦;何金同;李洪昌;鄧萌;于冠群;路赟 | 申請(專利權)人: | 萬華化學集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C07C51/235 | 分類號: | C07C51/235;C07C53/122;C07C53/126;B01J10/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 264006 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氧化 反應 裝置 及其 化合物 中的 應用 | ||
1.一種氧化反應裝置,其特征在于,所述反應裝置包括管殼式反應器和氣液分離器(5),所述氣液分離器(5)通過管路與管殼式反應器的頂部相連通;
所述管殼式反應器從下向上依次分為原料液進料部分(1)、氧氣進料部分(2)、反應部分(3)、氮氣進料部分(4),各部分的腔體內貫通設置有反應管且各腔體通過密封板相間隔;
所述原料液進料部分(1)的下端開設有原料液進料口(6);所述氧氣進料部分(2)的側壁上開設有氧氣進料口(7),且該部分腔體內的反應管為無機膜包裹的金屬燒結管;所述反應部分(3)的側壁上分別開設有移熱介質入口(8)、移熱介質出口(9);所述氮氣進料部分(4)的側壁上開設有氮氣進料口(10),且該部分腔體內的反應管為金屬燒結管;
原料液進料部分(1)、反應部分(3)腔體內的反應管均為不銹鋼管;所述不銹鋼管內徑大于金屬燒結管內徑。
2.根據權利要求1所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述無機膜為一層或多層。
3.根據權利要求2所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述無機膜為氧化鋁膜、碳化硅膜、分子篩膜、氧化鋯膜和陶瓷膜中的一種。
4.根據權利要求3所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述無機膜為氧化鋁膜。
5.根據權利要求2所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述無機膜孔徑為0.01-0.1μm。
6.根據權利要求5所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述無機膜孔徑為0.01-0.02μm。
7.根據權利要求1-6任一項所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氧氣進料部分(2)內金屬燒結管孔徑為0.1-20μm,金屬燒結管厚度為1-20 mm。
8.根據權利要求7所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氧氣進料部分(2)內金屬燒結管孔徑為1-10μm,金屬燒結管厚度為5-15 mm。
9.根據權利要求8所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氧氣進料部分(2)內金屬燒結管孔徑為2-5μm,金屬燒結管厚度為8-12 mm。
10.根據權利要求1-6任一項所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氮氣進料部分(4)內金屬燒結管孔徑為10-60μm,金屬燒結管厚度為1-20 mm。
11.根據權利要求10所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氮氣進料部分(4)內金屬燒結管孔徑為20-50μm,金屬燒結管厚度為5-15 mm。
12.根據權利要求11所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氮氣進料部分(4)內金屬燒結管孔徑為30-40μm,金屬燒結管厚度為8-12 mm。
13.根據權利要求1-6任一項所述的氧化反應裝置,其特征在于,所述氣液分離器(5)下端的反應液出口(11)的位置高于管殼式反應器的頂端出料口。
14.一種如權利要求1-13任一項所述的氧化反應裝置在醛類化合物氧化反應中的應用,其特征在于,以氧氣或富氧空氣、醛類化合物為原料,在移熱介質循環換熱的條件下進行氧化反應制備羧酸;反應壓力為0-5 bar,反應溫度為20-100 ℃。
15.根據權利要求14所述的應用,其特征在于,反應壓力為0-1 bar,反應溫度為30-70℃。
16.根據權利要求14所述的應用,其特征在于,控制反應中氧氣與醛類化合物的摩爾比為0.5-1。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于萬華化學集團股份有限公司,未經萬華化學集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010107806.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





