[發明專利]交聯配體、納米粒子層圖案化的方法、量子點發光器件及顯示裝置

在審

• 申請號: 202010106719.9
• 申請日: 2020-02-21
• 公開（公告）號: CN113292463A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發明（設計）人: 陳卓
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方技術開發有限公司
• 主分類號: C07C323/22
• 分類號: C07C323/22;C07C323/19;C07D303/34;C07C59/84;C09K11/02;B82Y40/00;G03F7/004;H01L51/50;H01L51/56
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;蔡麗

1.一種交聯配體，其特征在于，包括：至少兩個配位基團，所述配位基團之間連接有至少一個光敏降解基團和至少一個熱敏交聯基團。

2.根據權利要求1所述的交聯配體，其特征在于，包括設置于兩端的至少一個第一配位基團和至少一個第二配位基團，

所述第一配位基團和第二配位基團之間依次連接有第一光敏降解基團、第一熱敏交聯基團、和第二光敏降解基團；或者

所述第一配位基團和第二配位基團之間依次連接有第一熱敏交聯基團、第一光敏降解基團、第二光敏降解基團、和第二熱敏交聯基團；或者

所述第一配位基團和第二配位基團之間依次連接有第一熱敏交聯基團、第一光敏降解基團、和第二熱敏交聯基團；或者

所述第一配位基團和第二配位基團之間連接有第一光敏降解基團；所述第一配位基團與第一光敏降解基團的之間的支鏈上連接有至少一個第一熱敏交聯基團；所述第二配位基團與第一光敏降解基團的之間的支鏈上連接有至少一個第二熱敏交聯基團。

3.根據權利要求1所述的交聯配體，其特征在于，所述光敏降解基團包括苯甲酰基團、鄰硝基苯甲氧基、苯甲氧基縮醛基團或者香豆酰基；所述熱敏交聯基團包括苯硫醚基、環氧基、雙鍵、丙烯酸酯基團或者甲基丙烯酸酯基團；所述配位基團選自烷基膦、烷基氧膦、羧基、巰基和氨基中的任意一種。

4.根據權利要求1所述的交聯配體，其特征在于，所述交聯配體如式(I)～式(VII)任意一化學式所示：

5.一種納米粒子層圖案化的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：在基板上形成納米粒子層；

S2：使含有權利要求1～4任意一項所述的交聯配體的溶液均勻黏附于所述基板上，所述交聯配體使納米粒子之間形成交聯；

S3：采用光照處理所述基板的預設區域，所述預設區域內的交聯配體降解并解除納米粒子之間的交聯；

S4：去除所述預設區域內的納米粒子；

S5：對所述基板進行熱處理，所述交聯配體中的熱敏交聯基團之間形成交聯，完成納米粒子層的圖案化。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述納米粒子層為量子點層。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，重復步驟S1～S5，在基板上形成多個能夠發出不同顏色光的量子點層。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述光照處理時采用波長為300～400nm的光；所述熱處理的溫度為100～150℃，所述熱處理的時間為10～30min。

9.一種量子點發光器件的制備方法，包括形成陽極、量子點層和陰極，其特征在于，所述量子點層采用權利要求5～8任意一項所述的方法制成。

10.一種量子點發光器件，其特征在于，采用權利要求9所述的量子點發光器件的制備方法制作形成。

11.一種顯示裝置，包括權利要求10所述的量子點發光器件。