[發明專利]一種光刻膠供給裝置有效
| 申請號： | 202010098934.9 | 申請日： | 2020-02-18 |
| 公開（公告）號： | CN113341654B | 公開（公告）日： | 2023-02-28 |
| 發明（設計）人： | 董必志 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成麗杰 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 供給 裝置 | ||
1.一種光刻膠供給裝置，其特征在于，包括：清洗結構和存儲結構；
所述清洗結構包括第一光刻膠入口和第一光刻膠出口；所述存儲結構包括第二光刻膠入口和第二光刻膠出口；所述第一光刻膠出口與所述第二光刻膠入口連接；所述清洗結構中設置有超聲波發生器；
所述超聲波發生器用于產生超聲波，將所述清洗結構中的光刻膠溶液中氣泡從所述光刻膠溶液中脫離，以及將所述光刻膠溶液中的雜質顆粒聚集；
所述存儲結構用于存儲經過超聲波處理后的光刻膠溶液，所述第一光刻膠出口位于所述清洗結構的頂端；所述第二光刻膠出口位于所述存儲結構的頂端；
所述清洗結構內還設置有阻隔單元；所述阻隔單元包括至少一個鏤空結構；
所述阻隔單元將所述清洗結構的容納腔分為第一區和第二區；
所述第一區和所述第二區的排列方向垂直于所述清洗結構的底部；
所述阻隔單元呈漏斗狀；
所述阻隔單元的中心區域朝向所述清洗結構的底部凸起。
2.根據權利要求1所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述鏤空結構的面積為S1，所述阻隔單元的面積為S2，其中，S1＝(1/4)S2。
3.根據權利要求1所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述存儲結構內還設置有位置傳感器；所述第一光刻膠出口與所述第二光刻膠入口之間設置有第一排液泵；
所述光刻膠供給裝置還包括控制器；所述位置傳感器以及所述第一排液泵均與所述控制器電連接；
所述位置傳感器位于所述存儲結構的側壁上，且所述位置傳感器與所述存儲結構的底部之間的距離為預設高度值；
所述位置傳感器用于感測所在位置處是否有光刻膠溶液；當所述位置傳感器未感測到光刻膠溶液時，所述控制器控制所述第一排液泵將所述清洗結構中的光刻膠溶液輸出至所述存儲結構內。
4.根據權利要求3所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，還包括輸出管道；所述輸出管道通過所述第二光刻膠出口伸入至所述存儲結構內；
伸入至所述存儲結構內的所述輸出管道的端口與所述存儲結構的底部之間的距離小于等于所述位置傳感器與所述存儲結構的底部之間的距離。
5.根據權利要求4所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，還包括噴嘴；所述輸出管道還與所述噴嘴連接。
6.根據權利要求4所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述輸出管道上設置有第二排液泵。
7.根據權利要求1所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述清洗結構還包括氣泡排出口和顆粒排出口；所述氣泡排出口位于所述清洗結構的頂端，用于排出從所述光刻膠溶液中脫離的氣泡；
所述顆粒排出口位于所述清洗結構的底部，用于排出所述光刻膠溶液中聚集的雜質顆粒。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于長鑫存儲技術有限公司，未經長鑫存儲技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010098934.9/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
