[發明專利]一種干法刻蝕設備的上部電極及干法刻蝕設備

在審

• 申請號: 202010098825.7
• 申請日: 2020-02-18
• 公開（公告）號: CN111243933A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 王金寶;冷問竹;陳飛;李巖
• 申請（專利權）人: 信利（仁壽）高端顯示科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 許青華

1.一種干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，其包括上部電極主體和用于套合所述上部電極主體的輔助裝置；所述上部電極主體包括母材，所述母材上設有多個第一通氣孔；所述輔助裝置包括基板，所述基板上設有與所述第一通氣孔對應的第二通氣孔；所述基板覆蓋所述母材表面，所述第二通氣孔向外延伸至所述第一通氣孔內，所述基板表面及所述第二通氣孔表面具有絕緣膜。

2.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述輔助裝置與所述上部電極主體可分離式設置。

3.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述基板與所述母材具有相同的形狀。

4.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述輔助裝置由絕緣材料制成。

5.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述輔助裝置由金屬材料制成，所述絕緣膜通過陽極氧化工藝形成。

6.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述母材為鋁基板，所述母材為長方形，所述第一通氣孔在所述母材上呈陣列分布。

7.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述母材表面和第一通氣孔內均設有氧化鋁絕緣膜。

8.如權利要求1所述的干法刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述母材厚度為10-15mm，所述基板的厚度控制為3-5mm。

9.一種干法刻蝕設備，其特征在于，其包括權利要求1-9任一項所述的上部電極。