[發明專利]等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202010097903.1
• 申請日: 2020-02-18
• 公開（公告）號: CN111668084A
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 高橋大輔;中谷政次
• 申請（專利權）人: 日本電產株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05H1/24
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強;李平

本發明提供一種等離子體處理裝置，具備工作臺、和與載置在上述工作臺上的被處理物對置地配置的對置電極部，利用在上述對置電極部與上述被處理物之間產生的等離子體對上述被處理物進行處理，上述等離子體處理裝置具備：通過使上述工作臺與上述對置電極部相對移動來調整上述被處理物與上述對置電極部之間的距離的移動機構；以及根據通過由電源部對上述對置電極部施加電壓而產生的電流來控制上述移動機構的控制部。

技術領域

本發明涉及一種等離子體處理裝置。

背景技術

現今，大多利用以下技術：使密閉容器的內部減壓來產生等離子體，對配置在該密閉容器內的工件進行等離子體處理。另外，近年來，確立了在大氣壓下穩定地進行等離子體放電的技術，實現了開放空間內的等離子體處理。由此，不需要耐減壓的穩固的密閉容器，能夠實現廉價的等離子體處理裝置。

專利文獻1公開這樣的在大氣壓下進行等離子體處理的現有的等離子體處理裝置。上述專利文獻1的等離子體處理裝置具備被施加電壓的HOT電極和覆蓋HOT電極的表面的電介質。并與電介質對置地配置具有導電性的被處理物。

向電介質與被處理物之間供給處理氣體，對HOT電極施加電壓來在HOT電極與被處理物之間產生放電。使因放電而等離子體化后的處理氣體與被處理物的表面接觸，對上述表面進行等離子體處理。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2007-115616號公報

發明內容

發明所要解決的課題

然而，在上述專利文獻1中，例如因被處理物的表面的高度位置的偏差，有電介質與上述表面之間的距離不恒定的擔憂，從而有無法進行穩定的等離子體放電的擔憂。

鑒于上述狀況，本發明的目的在于提供一種能夠使等離子體放電變得穩定的等離子體處理裝置。

用于解決課題的方案

本發明示例的等離子體處理裝置具備工作臺、和與載置在上述工作臺上的被處理物對置地配置的對置電極部，上述等離子體處理裝置利用在上述對置電極部與上述被處理物之間產生的等離子體對上述被處理物進行處理，上述等離子體處理裝置具備：移動機構，其通過使上述工作臺與上述對置電極部相對移動，來調整上述被處理物與上述對置電極部之間的距離；以及控制部，其根據通過由電源部對上述對置電極部施加電壓而產生的電流，來控制上述移動機構。

發明的效果

根據本發明示例的等離子體處理裝置，能夠使等離子體放電變得穩定。

附圖說明

圖1是簡要地示出第一實施方式的等離子體處理裝置的整體結構的圖。

圖2是示出被處理物和對置電極部之間的距離與放電電流的電流值的關系性的一例的圖。

圖3是示出第一實施方式的等離子體處理裝置中的施加給電壓施加電極的輸出電壓、和由電流計檢測到的檢測電流信號的波形例的圖。

圖4是比較例的等離子體處理裝置中的施加給電壓施加電極的輸出電壓、和由電流計檢測到的檢測電流信號的波形例的圖。

圖5是示出被處理物的處理工序的第一例的俯視圖。

圖6是示出被處理物的處理工序的第二例的俯視圖。

圖7是示出使對置電極部移動的促動器的一例的俯視圖。

圖8是簡要地示出第二實施方式的等離子體處理裝置的局部結構的圖。

圖9是簡要地示出第三實施方式的等離子體處理裝置的局部結構的圖。

圖中：