[發明專利]等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202010097903.1
• 申請日: 2020-02-18
• 公開（公告）號: CN111668084A
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 高橋大輔;中谷政次
• 申請（專利權）人: 日本電產株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05H1/24
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強;李平

1.一種等離子體處理裝置，具備工作臺、和與載置在上述工作臺上的被處理物對置地配置的對置電極部，利用在上述對置電極部與上述被處理物之間產生的等離子體對上述被處理物進行處理，

上述等離子體處理裝置的特征在于，具備：

移動機構，其通過使上述工作臺與上述對置電極部相對移動，來調整上述被處理物與上述對置電極部之間的距離；以及

控制部，其根據通過由電源部對上述對置電極部施加電壓而產生的電流，來控制上述移動機構。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

利用大氣壓下的等離子體放電對上述被處理物進行處理。

3.根據權利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

還具備電流計，該電流計配置在與上述工作臺連接的電流路徑并檢測上述電流。

4.根據權利要求1至3任一項中所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述移動機構使上述對置電極部移動。

5.根據權利要求1至4任一項中所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

還具備第一促動器，該第一促動器使上述工作臺和上述對置電極部的至少一方沿與上述移動機構的移動方向垂直的預定方向移動。

6.根據權利要求5所述的等離子體處理裝置，其特征在于，還具備：

位移計，其計測上述被處理物的被處理面的高度；以及

第二促動器，其使上述工作臺和上述位移計的至少一方沿上述預定方向移動，

上述控制部基于上述位移計的計測結果和上述電流來控制上述移動機構。

7.根據權利要求5所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

還具備計測上述被處理物的被處理面的高度的位移計，

上述控制部基于上述位移計的一個部位的計測結果和上述電流來控制上述移動機構。

8.根據權利要求1至7任一項中所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述控制部按照根據預定基準區分出的上述被處理物來存儲上述被處理物和上述對置電極部之間的距離與電流值的關系性。

9.根據權利要求1至8任一項中所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述控制部基于上述電流的檢測結果來修正所存儲的上述被處理物和上述對置電極部之間的距離與電流值的關系性。

10.根據權利要求1至9任一項中所述的等離子體處理裝置，其特征在于，還具備：

第三促動器，其使上述工作臺移動；

絕緣部，其配置在上述工作臺與上述第三促動器之間；以及

電流計，其配置于與上述工作臺連接的電流路徑并檢測上述電流。