[發(fā)明專利]一種柔性濕度傳感器用鎳鉻-鋁電極圖形制備方法

在審

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• 申請日: 2020-02-17
• 公開（公告）號: CN111206245A
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 石華平;黎威志;陳德林
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇友潤微電子有限公司
• 主分類號: C23C30/00
• 分類號: C23C30/00;C23F1/02;C23F1/20
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102
• 代理人: 陳棟智

本發(fā)明公開了一種柔性濕度傳感器用鎳鉻?鋁電極圖形制備方法，包括以下步驟：將硅或玻璃襯底徹底清洗干燥；在襯底上沉積一薄層鋁；旋涂正性光刻膠并低溫烘烤幾分鐘；光刻膠采用互補(bǔ)的負(fù)光刻版曝光以形成引出端和電極圖形；顯影，然后用磷酸腐蝕暴露出的鋁；在丙酮中去除光刻膠，此時襯底上除了電極和引出端圖形區(qū)外，其他區(qū)域都覆蓋了鋁薄膜；襯底徹底清洗干燥后連續(xù)沉積一層鎳鉻薄膜和鋁薄膜，沉積過程中襯底不加溫；旋涂正性光刻膠并低溫烘烤幾分鐘；采用正性光刻版圖曝光形成引出端圖形并顯影；用磷酸刻蝕暴露的鋁薄膜；襯底在去離子水中徹底清洗后，用丙酮去掉光刻膠，形成鎳鉻電極圖形，本發(fā)明工藝簡單、成本低。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種傳感器，特別涉及一種傳感器用鎳鉻-鋁電極圖形。

背景技術(shù)

由于器件結(jié)構(gòu)的需要，柔性濕度傳感器經(jīng)常需要用到鋁和鎳鉻兩種電極材料：鋁電極通常用與信號處理電路相連而鎳鉻用做敏感材料電極，兩種電極還需互聯(lián)。來目前通用的在金、銅、鋁等導(dǎo)電材料上的鎳鉻薄膜電極圖形化的方法一般都是采用兩種刻蝕液——一種用來刻蝕鎳鉻、一種用來刻蝕下層金屬（金、銅、鋁等）。但是該方法的缺點在于需要使用兩種刻蝕液，成本相對較高；此外，對于鎳鉻-鋁構(gòu)成的電極圖形，鎳鉻刻蝕液需要加熱到特定溫度才能起到有效的刻蝕效果，如果不小心超過了該溫度，這種刻蝕液也會對鋁產(chǎn)生刻蝕。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種柔性濕度傳感器用鎳鉻-鋁電極圖形制備方法，其工藝簡單，成本低廉。

本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的：一種柔性濕度傳感器用鎳鉻-鋁電極圖形制備方法，包括以下步驟：

1）將硅或玻璃襯底徹底清洗干燥；

2）在襯底上沉積一薄層鋁；

3）旋涂正性光刻膠并低溫烘烤幾分鐘；

4）光刻膠采用互補(bǔ)的負(fù)光刻版曝光以形成引出端和電極圖形；

5）顯影，然后用磷酸腐蝕暴露出的鋁；

6）在丙酮中去除光刻膠，此時襯底上除了電極和引出端圖形區(qū)外，其他區(qū)域都覆蓋了鋁薄膜；

7）襯底徹底清洗干燥后連續(xù)沉積一層鎳鉻薄膜和鋁薄膜，沉積過程中襯底不加溫；

8）旋涂正性光刻膠并低溫烘烤幾分鐘；

9）采用正性光刻版圖曝光形成引出端圖形并顯影；

10）用磷酸刻蝕暴露的鋁薄膜；

11）襯底在去離子水中徹底清洗后，用丙酮去掉光刻膠，形成鎳鉻電極圖形。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步限定，步驟7）中的鎳鉻薄膜的方阻為200~500Ω/□。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步限定，步驟7）中的鋁薄膜的厚度為500±20nm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于：

1. 工藝簡單、成本低，只用到一種刻蝕液，即引出端所用金屬材料刻蝕液（如鋁）；

2. 本發(fā)明適用于任何包含電極和導(dǎo)電兩種薄膜的結(jié)構(gòu)，只要引出端刻蝕液不會刻蝕電極材料；

3. 本發(fā)明重復(fù)性好，效率高。

附圖說明

圖1為本發(fā)明中襯底層示意圖。

圖2為本發(fā)明中步驟6后的示意圖。

圖3為本發(fā)明中步驟9后的示意圖。

圖4為本發(fā)明最終獲得的鎳鉻電極圖形示意圖。

具體實施方式