[發(fā)明專利]非接觸姿態(tài)測量方法以及存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010093750.3
• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號(hào): CN111238438B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊君;徐唐進(jìn);習(xí)先強(qiáng);孫化龍
• 申請（專利權(quán)）人: 天津時(shí)空經(jīng)緯測控技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G01C1/00
• 分類號(hào): G01C1/00;G01B11/27
• 代理公司: 北京萬思博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11694
• 代理人: 劉冀

本申請公開了一種非接觸姿態(tài)測量方法、裝置以及存儲(chǔ)介質(zhì)，用于對(duì)被測物體的姿態(tài)進(jìn)行測量。其中，非接觸姿態(tài)測量方法包括：獲取第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置(10)與被測物體的第一測量面(S1)之間的第一角度偏差信息，其中第一角度偏差信息用于指示第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置(10)的軸線與第一測量面(S1)的法線之間的角度偏差；獲取與第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置(10)的姿態(tài)相關(guān)的第一測量信息；以及根據(jù)第一角度偏差信息以及第一測量信息，確定被測物體的第一姿態(tài)信息。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及姿態(tài)測量技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種非接觸姿態(tài)測量方法、裝置以及存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的對(duì)物體的姿態(tài)進(jìn)行測量的方式為接觸式姿態(tài)測量，例如將陀螺儀放置在被測物體上，用以測量被測物體的姿態(tài)。然而，在實(shí)際的應(yīng)用場景中，會(huì)存在無法直接將陀螺儀放置在被測物體上的情況。因此，需要一種非接觸式姿態(tài)測量方式，使得在不與被測物體接觸的情況下，確定與被測物體相關(guān)的姿態(tài)信息。

但是，在不與被測物體接觸的情況下，如何獲取與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的測量信息，并且在獲取到與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的測量信息的情況下，如何確定被測物體的姿態(tài)信息的技術(shù)問題，目前尚未提出有效的解決方案。

發(fā)明內(nèi)容

本公開提供了一種非接觸姿態(tài)測量系統(tǒng)和姿態(tài)信息獲取設(shè)備，以至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的在不與被測物體接觸的情況下，如何獲取與被測物體相關(guān)的姿態(tài)信息，并且在獲取到與被測物體相關(guān)的姿態(tài)信息的情況下，如何確定被測物體的姿態(tài)的技術(shù)問題。

根據(jù)本申請的一個(gè)方面，提供了一種非接觸姿態(tài)測量方法，用于對(duì)被測物體的姿態(tài)進(jìn)行測量，包括：獲取第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置與被測物體的第一測量面之間的第一角度偏差信息，其中第一角度偏差信息用于指示第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置的軸線與第一測量面的法線之間的角度偏差；獲取與第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)相關(guān)的第一測量信息；以及根據(jù)第一角度偏差信息以及第一測量信息，確定被測物體的第一姿態(tài)信息。

根據(jù)本申請的另一個(gè)方面，提供了一種存儲(chǔ)介質(zhì)，存儲(chǔ)介質(zhì)包括存儲(chǔ)的程序，其中，在程序運(yùn)行時(shí)由處理器執(zhí)行以上所述的方法。

根據(jù)本申請的另一個(gè)方面，提供了一種非接觸姿態(tài)測量裝置，包括：處理器；以及存儲(chǔ)器，與處理器連接，用于為處理器提供處理以下處理步驟的指令：獲取第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置與被測物體的第一測量面之間的第一角度偏差信息，其中第一角度偏差信息用于指示第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置的軸線與被測物體的第一測量面的法線之間的角度偏差；獲取與第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)相關(guān)的第一測量信息；以及根據(jù)第一角度偏差信息以及第一測量信息，確定被測物體的第一姿態(tài)信息。。

根據(jù)本實(shí)施例提供的非接觸姿態(tài)測量方法，首先通過光學(xué)準(zhǔn)直裝置獲取光學(xué)準(zhǔn)直裝置與被測物體的測量面之間的角度偏差信息。然后獲取與光學(xué)準(zhǔn)直裝置的姿態(tài)相關(guān)的測量信息。最后根據(jù)角度偏差信息以及測量信息確定被測物體的姿態(tài)信息。從而無需將光學(xué)準(zhǔn)直裝置與被測物體接觸也可以測量出被測物體的姿態(tài)信息。進(jìn)而解決了在不與被測物體接觸的情況下，如何獲取與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的測量信息，并且在獲取到與被測物體的姿態(tài)相關(guān)的測量信息的情況下，如何確定被測物體的姿態(tài)信息的技術(shù)問題。

根據(jù)下文結(jié)合附圖對(duì)本申請的具體實(shí)施例的詳細(xì)描述，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)更加明了本申請的上述以及其他目的、優(yōu)點(diǎn)和特征。

附圖說明

后文將參照附圖以示例性而非限制性的方式詳細(xì)描述本申請的一些具體實(shí)施例。附圖中相同的附圖標(biāo)記標(biāo)示了相同或類似的部件或部分。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，這些附圖未必是按比例繪制的。附圖中：

圖1是根據(jù)本申請實(shí)施例1所述的非接觸姿態(tài)測量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是根據(jù)本申請實(shí)施例1所述的非接觸姿態(tài)測量方法的流程示意圖；

圖3是根據(jù)本申請實(shí)施例1所述的利用非接觸姿態(tài)測量系統(tǒng)的第一光學(xué)準(zhǔn)直裝置朝向被測物體的第一測量面的示意圖；