[發明專利]非接觸姿態測量方法以及存儲介質有效
| 申請號: | 202010093750.3 | 申請日: | 2020-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN111238438B | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發明(設計)人: | 楊君;徐唐進;習先強;孫化龍 | 申請(專利權)人: | 天津時空經緯測控技術有限公司 |
| 主分類號: | G01C1/00 | 分類號: | G01C1/00;G01B11/27 |
| 代理公司: | 北京萬思博知識產權代理有限公司 11694 | 代理人: | 劉冀 |
| 地址: | 300380 天津市西青區中*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 接觸 姿態 測量方法 以及 存儲 介質 | ||
1.一種非接觸姿態測量方法,用于對被測物體的姿態進行測量,其特征在于,包括:
獲取第一光學準直裝置(10)與所述被測物體的第一測量面(S1)之間的第一角度偏差信息,其中所述第一角度偏差信息用于指示所述第一光學準直裝置(10)的軸線與所述第一測量面(S1)的法線之間的角度偏差;
獲取與所述第一光學準直裝置(10)的姿態相關的第一測量信息;
根據所述第一角度偏差信息以及所述第一測量信息,確定所述被測物體的第一姿態信息;
獲取第二光學準直裝置(20)與所述被測物體的第二測量面(S2)之間的第二角度偏差信息,其中所述第二角度偏差信息用于指示所述第二光學準直裝置(20)的軸線與所述第二測量面(S2)的法線之間的角度偏差;
獲取與所述第二光學準直裝置(20)的姿態相關的第二測量信息;
根據所述第二角度偏差信息以及所述第二測量信息,確定所述被測物體的第二姿態信息;以及
根據所述第一姿態信息和所述第二姿態信息確定所述被測物體的完整的姿態信息,并且其中
所述第一光學準直裝置(10)包括:光源(111);圖像采集單元(112);設置于所述光源前的第一分劃板(113);設置于所述圖像采集單元(112)前的第二分劃板(114);以及光學系統,其中
所述光學系統用于將由所述光源(111)發射并且穿過所述第一分劃板(113)的光源光投射到所述第一測量面(S1)上,以及將從所述第一測量面(S1)反射回的所述光源光經由所述第二分劃板(114)投射到所述圖像采集單元(112),并且
獲取所述第一角度偏差信息的操作,包括獲取所述圖像采集單元(112)采集的檢測圖像作為所述第一角度偏差信息,其中所述檢測圖像包含所述第一分劃板(113)的第一刻線的第一影像和所述第二分劃板(114)的第二刻線的第二影像,并且其中
根據所述第一角度偏差信息以及所述第一測量信息,確定所述被測物體的第一姿態信息的操作,包括:
根據所述第一影像相對于所述第二影像的相對位移(Δx,Δy),通過以下公式確定被測物體相對于所述第一光學準直裝置(10)的方位角偏差ki和俯仰偏差角φi:
ki=Δx/Sx
φi=Δy/Sy
其中Sx為水平方向的比例因子,Sy為垂直方向的比例因子;
利用與所述第一光學準直裝置(10)連接的陀螺儀(121a、121b、121c)和加速度計(122a、122b、122c)檢測所述第一光學準直裝置(10)的方位角α1以及俯仰角β1;以及
將所述第一光學準直裝置(10)的方位角α1以及所述被測物體相對于所述第一光學準直裝置(10)的方位角偏差ki求和,確定所述被測物體的方位角,并且將所述第一光學準直裝置(10)的俯仰角β1以及所述被測物體相對于所述第一光學準直裝置(10)的俯仰偏差角φi求和,確定所述被測物體的俯仰角。
2.一種存儲介質,其特征在于,所述存儲介質包括存儲的程序,其中,在所述程序運行時由處理器執行權利要求1所述的方法。
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