[發(fā)明專利]磁盤用基板、磁盤、以及磁盤驅動裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010092798.2
• 申請日: 2016-03-31
• 公開（公告）號: CN111341353B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發(fā)明（設計）人: 板谷旬展;越阪部基延
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;G11B5/82;G11B5/73;B82Y40/00;B82Y10/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成

本發(fā)明涉及磁盤用基板、磁盤、以及磁盤驅動裝置，其中，磁盤用基板具有一對主表面，上述主表面的算術平均粗糙度Ra為0.11nm以下。另外，在主表面的表面凹凸中，從該表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2個以上凸部各自所占的區(qū)域的面積的平均為25[nm²/個]以下。上述算術平均粗糙度Ra和上述表面凹凸使用具有探針的原子力顯微鏡進行測定，該探針在探針前端設置有碳納米纖維的棒狀部件。

本申請是分案申請，其原申請的申請?zhí)枮?01680019268.7，申請日為2016年03月31日，發(fā)明名稱為“磁盤用基板、磁盤、以及磁盤用基板的制造方法”。

技術領域

本發(fā)明涉及具有一對主表面的磁盤用基板、磁盤、以及磁盤用基板的制造方法。

背景技術

對于用作信息記錄介質之一的磁盤而言，以往適宜地使用了鋁合金制基板或玻璃基板。現在，應硬盤驅動裝置中的存儲容量增大的要求，謀求磁記錄的高密度化。伴隨于此，進行了下述操作：使磁頭距磁記錄面的懸浮距離極短，從而對磁記錄信息區(qū)域進行微細化。例如，在磁盤的磁性層形成垂直磁化，從而進行磁記錄。對于這種磁盤用基板而言，為了達成高記錄密度硬盤驅動裝置所需的磁頭低懸浮量化，降低磁盤用基板的表面凹凸的要求越來越強。

例如，已知一種垂直磁記錄介質用的基板，其由非磁性材料構成，該垂直磁記錄介質用的基板具有下述表面形狀：表面截面曲線的傾斜角度為2.0度以下，或者，在83nm以下的周期的表面粗糙度Ra～30nm以下的周期的表面粗糙度Ra的范圍內，表面粗糙度Ra為0.15nm以下(專利文獻1)。通過該基板，能夠改善形成于該基板上的磁性顆粒的結晶取向性，能夠實現磁記錄介質的記錄層(或磁性層)的低干擾化。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2008-293552號公報

發(fā)明內容

發(fā)明所要解決的課題

在上述的垂直磁記錄介質用的基板中，表面粗糙度Ra由使用原子力顯微鏡所測得的結果求出。原子力顯微鏡例如將由單晶Si構成的部件用于探針前端，從而對表面粗糙度進行測定。但是，即便使表面粗糙度Ra為0.15nm以下，有時也未必能夠改善磁盤特性。例如，在將信號記錄于磁盤后將信號讀出，由此能夠將BER(誤碼率：Bit Error Rate)作為磁盤特性求出。該BER無法與上述表面粗糙度Ra獲得充分的關聯，也存在雖然表面粗糙度Ra小、但BER大的情況。

因此，本發(fā)明的目的在于提供與上述磁盤特性密切相關的磁盤用基板的表面粗糙度的指標，提供磁盤特性優(yōu)異的磁盤用基板、磁盤、以及磁盤用基板的制造方法。

用于解決課題的方案

本發(fā)明的一個方式為一種磁盤用基板。

該磁盤用基板具有一對主表面，

上述主表面的算術平均粗糙度Ra為0.11nm以下。

上述表面粗糙度Ra是使用具備探針的原子力顯微鏡所測得的值，該探針在探針前端設置有碳納米纖維的棒狀部件。

本發(fā)明的另一方式也為一種磁盤用基板。

該磁盤用基板具有一對主表面，

在上述主表面的表面凹凸中，從該表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2個以上凸部各自所占的區(qū)域的面積的平均為25[nm²/個]以下。

上述主表面的表面凹凸是使用具備探針的原子力顯微鏡所測得的值，該探針在探針前端設置有碳納米纖維的棒狀部件。

從上述表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2個以上凸部各自所占的區(qū)域的面積的平均優(yōu)選為20[nm²/個]以下。