[發明專利]有機電致發光顯示裝置用金屬掩膜清洗方法及利用它的金屬掩膜

在審

• 申請號: 202010092477.2
• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號: CN111748838A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發明（設計）人: 全修永;林永珉;樸鎬仁;辛性勛;李道亨
• 申請（專利權）人: 豐元化學有限公司
• 主分類號: C25F1/06
• 分類號: C25F1/06;C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413
• 代理人: 謝攀;劉繼富

本發明提供一種清洗有機電致發光顯示裝置制造工藝中使用的金屬掩膜的方法及用所述方法清洗的金屬掩膜，所述清洗方法包括：提供附著有環境異物或有機發光材料的金屬掩模；以及將所述金屬掩膜浸漬于電解液后，向浸入所述電解液的電極供應電流，其中通過正向脈沖方式或反向脈沖方式供應所述電流。

技術領域

本公開涉及一種清洗有機電致發光顯示裝置制造工藝中使用的金屬掩膜的方法及用該方法清洗的金屬掩膜。

背景技術

對輸出圖像信息的顯示裝置的各種要求不斷增加，因此已經研發利用各種平板顯示裝置如液晶顯示裝置(LCD)或等離子顯示裝置(PDP)、有機電致發光顯示裝置(OLED)、真空熒光顯示裝置(VFD)等。

在這些平板顯示裝置中，有機電致發光顯示裝置利用了通過電子和空穴的復合(recombination)使熒光材料發光的自發光元件即有機發光層，由于對比度(ContrastRatio)和響應速度(response time)等顯示性能優異以及容易實現柔性顯示器(FlexibleDisplay)，作為最理想的下一代顯示裝置受到關注。

有機電致發光顯示裝置是多個像素區排列成矩陣形式，并且每個像素區形成有用于驅動各像素的驅動元件等微圖案。

在這種情況下，發光的有機發光層由有機材料形成，由于有機材料的耐化學性弱，不會采用像現有技術利用曝光和蝕刻的光刻法，而是通過使有機材料氣化后，利用有機發光顯示器的沉積用掩膜選擇性地沉積在基板上，以形成有機發光層。然而，在沉積過程中，對基板進行篩選(screening)的有機電致發光顯示裝置的沉積用掩模的表面上也會沉積有機材料，因此在經過一定次數的工藝之后，必須清洗有機電致發光顯示裝置的沉積用掩模。

有機電致發光顯示裝置中陽極電極是通過包括曝光和蝕刻的光刻工藝形成在基板上，而有機薄膜和陰極電極是利用由金屬制成的沉積用掩模來沉積在形成有陽極電極的基板上。

然而，當利用如上所述的沉積用掩模實施幾次沉積時，將會有沉積物如有機材料等堆積在沉積用掩模的表面上，而如果一直不理會堆積有沉積物的沉積用掩模，就會造成腔室污染。

此外，金屬薄片制成的沉積用掩模因堆積的沉積物的重量而翹曲，這會影響圖案的精密度。因此，需要定期去除堆積在沉積用掩模上的沉積物。

發明內容

技術問題

本發明的一個示例性實施方案旨在提供一種清洗有機電致發光顯示裝置制造工藝中使用的金屬掩膜的方法，通過去除氫氣使極化現象最小化，從而可以確保穩定的清洗力。

本發明的另一個示例性實施方案旨在提供一種用所述清洗方法清洗的金屬掩膜。

技術方案

本發明的一個示例性實施方案提供一種清洗有機電致發光顯示裝置制造工藝中使用的金屬掩膜的方法，該清洗方法包括：提供附著有環境異物或有機發光材料的金屬掩模；以及將所述金屬掩膜浸漬于電解液后，向浸入所述電解液的電極供應電流，其中通過正向脈沖方式或反向脈沖方式供應所述電流。

所述電解液的溫度可為20℃至100℃。

所述電流可具有1.5A/dm2至25A/dm2的電流密度。

所述清洗時間可為3分鐘至120分鐘。

所述清洗方法還可包括通過泡沫供應裝置進一步提供泡沫。

所述清洗方法還可包括通過超聲波發生器進一步提供超聲波。

所述金屬掩膜由殷鋼或不銹鋼制成，所述電解液可包括堿鹽、水溶性有機酸鹽及減少所述金屬掩膜的損傷的抑制劑，所述抑制劑可包括硫脲、1,2,3-苯并三唑或吡啶基化合物。